[實用新型]厚度均勻的箔式應變計有效
| 申請號： | 201520840460.5 | 申請日： | 2015-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN205209473U | 公開（公告）日： | 2016-05-04 |
| 發明（設計）人： | 范紅中 | 申請（專利權）人： | 范紅中 |
| 主分類號： | G01B21/32 | 分類號： | G01B21/32 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129 | 代理人： | 陳雙喜 |
| 地址： | 523000 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 厚度 均勻 應變 | ||
1.一種厚度均勻的箔式應變計，包括薄膜基底、敏感柵和密封層，其 特征在于：所述薄膜基底與敏感柵熱壓貼合，所述熱壓貼合為薄膜基底與 敏感柵在一定溫度條件下熱壓復合，或薄膜基底與敏感柵通過熱熔膠在一 定溫度條件下熱壓粘合；所述密封層熱壓貼合于敏感柵的上表面。
2.根據權利要求1所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：當薄 膜基底與敏感柵為熱壓復合時，所述薄膜基底為聚醚醚酮膜，所述聚醚醚 酮膜的厚度為7～50μm。
3.根據權利要求2所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：所述 聚醚醚酮與敏感柵在溫度為300～400℃、壓力為1g～2kg/cm2時熱壓復合。
4.根據權利要求1所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：當薄 膜基底與敏感柵通過熱熔膠熱壓粘合時，所薄膜基底為帶有熱熔膠的聚酰 亞胺膜，所述聚酰亞胺膜的厚度為7～50μm。
5.根據權利要求4所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：所述 熱熔膠均勻分布于聚酰亞胺膜的上表面，且所述熱熔膠層的厚度為1～20μm。
6.根據權利要求4或5所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：所 述聚酰亞胺膜與敏感柵在溫度為80～220℃、壓力為0.1～7kg/cm2時熱壓貼 合。
7.根據權利要求1所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：所述 密封層與敏感柵的貼合面均勻分布有熱熔膠層，所述熱熔膠層厚度為 1～20μm。
8.根據權利要求7所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于：所述 密封層與敏感柵在溫度為80～220℃、壓力為0.1～7kg/cm2時熱壓貼合。
9.根據權利要求1或7或8所述的厚度均勻的箔式應變計，其特征在于： 所述密封層為聚酰亞胺膜和聚醚醚酮膜中的一種。
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