[實用新型]一種蒸著裝置及蒸著裝置組有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520832871.X | 申請日: | 2015-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN205170963U | 公開(公告)日: | 2016-04-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 解博 | 申請(專利權)人: | 上海天馬有機發(fā)光顯示技術有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 200120 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 著裝 | ||
1.一種蒸著裝置,用于加熱材料并使材料變成氣體狀態(tài),包括盛放裝置, 其特征在于,還包括設置于盛放裝置外部的加熱裝置,所述加熱裝置包括:
將所述盛放裝置容納于內并可拆分為兩半的殼罩;
以及固定設置于所述殼罩下部并與殼罩之間形成密閉腔的超導液槽,所述 超導液槽用于盛放超導液,所述殼罩的內部貼附于所述盛放裝置的外部。
2.如權利要求1所述的一種蒸著裝置,其特征在于,所述密閉腔包裹所述 盛放裝置。
3.如權利要求1所述的一種蒸著裝置,其特征在于,所述盛放裝置包括坩 堝、設置于所述坩堝上部的防沸板和至少一設置于所述防沸板上部的噴嘴,兩 半所述殼罩合并后內部形成至少一用于容納所述噴嘴的噴嘴置放孔,所述密閉 腔靠近噴嘴一側的腔體上部與所述噴嘴上部平齊。
4.如權利要求3所述的一種蒸著裝置,其特征在于,所述坩堝呈桶狀或者 長條狀,所述坩堝呈長條狀時,所述盛放裝置具有多數(shù)個所述噴嘴,每一所述 噴嘴對應設置于一個所述噴嘴置放孔,多數(shù)個所述噴嘴置放孔呈一條直線。
5.如權利要求1所述的一種蒸著裝置,其特征在于,所述殼罩與所述超導 液槽之間設置有帶至少一孔的通氣網。
6.如權利要求1所述的一種蒸著裝置,其特征在于,所述超導液槽采用加 熱絲加熱。
7.一種蒸著裝置組,其特征在于,包括至少二如權利要求1所述蒸著裝置, 所述蒸著裝置的所述殼罩側表面對齊貼合。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





