[實用新型]用于直接光刻和數(shù)字微鏡設(shè)備的裝置和系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520815733.0
• 申請日: 2015-10-20
• 公開（公告）號: CN205353571U
• 公開（公告）日: 2016-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T·萊帝克;陳正方;J·M·懷特
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 黃嵩泉

技術(shù)領(lǐng)域

本公開的實施例一般涉及用于處理一個或多個基板的系統(tǒng)和方法，更具體而言，涉及用于執(zhí)行光刻工藝的系統(tǒng)和方法。

背景技術(shù)

光刻廣泛用于半導(dǎo)體器件和顯示設(shè)備(諸如，液晶顯示器(LCD))的制造中。大面積基板通常用于LCD的制造中。LCD(或平板)常用于有源矩陣顯示器，諸如，計算機、觸板設(shè)備、個人數(shù)字助理(PDA)、蜂窩電話、電視監(jiān)控器等。通常，平板可以包括形成夾在兩個板之間的像素的液晶材料層。當(dāng)跨液晶材料施加來自電源的電力時，可在像素位置處對穿過液晶材料的光量進行控制，使得能夠生成圖像。

顯微光刻技術(shù)一般用來創(chuàng)建作為形成像素的液晶材料層的部分而被并入的電特征。根據(jù)這項技術(shù)，通常將光敏光刻膠施加至基板的至少一個表面。隨后，圖案生成器將作為圖案的部分的光敏光刻膠的所選區(qū)域暴露于光，從而導(dǎo)致選擇性區(qū)域中的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化，以為后續(xù)的材料去除和/或材料添加工藝準(zhǔn)備好這些選擇性區(qū)域以創(chuàng)建電特征。

為了能夠繼續(xù)以消費者要求的價格來向消費者提供顯示設(shè)備以及其他設(shè)備，需要新的裝置和方法在基板(諸如，大面積基板)上精確地并且高成本效益地創(chuàng)建圖案。

實用新型內(nèi)容

本文所述的實施例一般涉及用于執(zhí)行光刻工藝的系統(tǒng)和方法。更具體地，本文所述的實施例使用數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)來實現(xiàn)穩(wěn)健且可靠的光刻。

在一個實施例中，提供了用于執(zhí)行光刻工藝的裝置。所述裝置包括：光源，所述光源能夠發(fā)射激光；鏡面，所述鏡面定位成使所述光源發(fā)射的所述激光折射；鏡面陣列(或數(shù)字微鏡設(shè)備)，所述鏡面陣列配置成用于反射所述鏡面折射的所述激光；透鏡，所述透鏡配置成用于折射所述鏡面陣列反射的所述激光；載物臺，所述載物臺能夠支撐所述激光所指向的基板，其中，所述載物臺配置成在X軸方向上移動；以及控制器，所述控制器配置成用于控制所述鏡面陣列中的每一個鏡面的角度；其中，所述鏡面陣列包括第一數(shù)目的鏡面和第二數(shù)目的鏡面，所述第一數(shù)目的鏡面在所述X軸方向上對齊，所述第二數(shù)目的鏡面在基本上垂直于所述X軸方向的Y軸方向上對齊，所述第二數(shù)目大于所述第一數(shù)目。

在另一個實施例中，提供了包括DMD的裝置。所述DMD能夠?qū)碜怨庠吹墓夥瓷渲量稍趻呙璺较蛏弦苿拥幕濉Ｋ鯠MD包括多個數(shù)字微鏡，所述多個數(shù)字微鏡布置成在X軸方向上至少一行和在Y軸方向上至少一列，其中，所述至少一行中的數(shù)字微鏡的數(shù)目超過所述至少一列中的數(shù)字微鏡的數(shù)目；并且所述至少一行基本上垂直于掃描方向。

在另一個實施例中，提供了用于光刻的系統(tǒng)。用于光刻的所述系統(tǒng)包括至少一個空間光調(diào)制器。每一個空間光調(diào)制器包括：光源，所述光源能夠發(fā)射激光；折射鏡，所述光源發(fā)射的所述激光可指向至所述折射鏡；鏡面陣列，所述鏡面陣列配置成用于反射所述折射鏡折射所述激光；以及透鏡，所述透鏡配置成用于折射所述鏡面陣列反射的所述激光。用于光刻的所述系統(tǒng)進一步包括：載物，所述載物能夠支撐所述激光所指向的基板，其中，所述載物臺配置成在X軸方向上移動；以及控制器，所述控制器配置成用于控制所述鏡面陣列中的每一個鏡面的角度。所述鏡面陣列包括第一數(shù)目的鏡面和第二數(shù)目的鏡面，所述第一數(shù)目的鏡面在所述X軸方向上對齊，所述第二數(shù)目的鏡面在基本上垂直于所述X軸方向的Y軸方向上對齊，所述第二數(shù)目大于所述第一數(shù)目。

附圖說明

因此，為了可詳細理解本公開案的上述特征的方式，可參照實施例來進行上文簡要概述的對本公開的更具體的描述，在所附附圖中圖示這些實施例中的一些。然而，應(yīng)當(dāng)注意，所附附圖僅圖示本公開的典型實施例，且因此不應(yīng)被視為限制本公開的范圍，因為本公開可以允許其他等效實施例。

圖1是可受益于本文所公開的實施例的系統(tǒng)的立體圖。

圖2是根據(jù)一個實施例的圖1的系統(tǒng)的橫截面?zhèn)纫晥D。

圖3是根據(jù)一個實施例的多個圖像投影系統(tǒng)的示意性立體圖。

圖4是根據(jù)一個實施例的圖3的多個圖像投影系統(tǒng)中的一個圖像投影系統(tǒng)的示意性透視圖。

圖5是根據(jù)一個實施例的DMD的兩個鏡面的放大的立體圖。

圖6示意性地例示由根據(jù)一個實施例的圖5的DMD的兩個鏡面反射的射束。

圖7示意性地例示根據(jù)一個實施方式的在處理期間通過圖5的DMD下方的基板。

圖8是提供若干市售類型的DMD的特性的表。

為了促進理解，在凡是可能的地方，已使用完全相同的參考編號來指定各圖所共有的完全相同的元件。另外，一個實施例中的元件可有利地適配用于本文所描述的其他實施例。