[實(shí)用新型]用于直接光刻和數(shù)字微鏡設(shè)備的裝置和系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520815733.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-10-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN205353571U | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | T·萊帝克;陳正方;J·M·懷特 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/20 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 黃嵩泉 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 直接 光刻 數(shù)字 設(shè)備 裝置 系統(tǒng) | ||
1.一種用于直接光刻的裝置,所述裝置包括:
光源,所述光源能夠發(fā)射激光;
鏡面,所述鏡面定位成使所述光源發(fā)射的所述激光折射;
鏡面陣列,所述鏡面陣列配置成用于反射所述鏡面折射的所述激光;
透鏡,所述透鏡配置成用于折射所述鏡面陣列反射的所述激光;
載物臺(tái),所述載物臺(tái)能夠支撐所述激光所指向的基板,其中,所述載物臺(tái)配置成在X軸方向上移動(dòng);以及
控制器,所述控制器配置成用于控制所述鏡面陣列中的每一個(gè)鏡面的角度;
其中,所述鏡面陣列包括第一數(shù)目的鏡面和第二數(shù)目的鏡面,所述第一數(shù)目的鏡面在所述X軸方向上對(duì)齊,所述第二數(shù)目的鏡面在基本上垂直于所述X軸方向的Y軸方向上對(duì)齊,所述第二數(shù)目大于所述第一數(shù)目。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述鏡面陣列中的鏡面中的每一個(gè)鏡面在至少兩種設(shè)置之間是可移動(dòng)的,所述設(shè)置包括:
表示接通條件的角度;以及
表示關(guān)斷條件的角度。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,表示所述關(guān)斷條件的角度將所述激光引導(dǎo)至射束收集器。
4.如權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,表示所述接通條件的角度經(jīng)由透鏡而將所述光引導(dǎo)向所述基板上的目標(biāo)。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一數(shù)目比所述第二數(shù)目的比率在9∶16與7∶21之間。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一數(shù)目比所述第二數(shù)目的比率為9∶16。
7.一種數(shù)字微鏡設(shè)備,所述數(shù)字微鏡設(shè)備能夠?qū)?lái)自光源的光反射至可在移動(dòng)方向上移動(dòng)的基板,所述數(shù)字微鏡設(shè)備包括:
多個(gè)數(shù)字微鏡,所述多個(gè)數(shù)字微鏡布置成在X軸方向上至少一行和在X軸方向上至少一列,其中:
所述至少一行中的數(shù)字微鏡的數(shù)目超過(guò)所述至少一列中的數(shù)字微鏡的數(shù)目;并且
所述至少一行基本上垂直于所述移動(dòng)方向。
8.如權(quán)利要求7所述的數(shù)字微鏡設(shè)備,其特征在于,所述至少一列中的數(shù)字微鏡的數(shù)目比所述至少一行中的數(shù)字微鏡的數(shù)目的比率在3∶4與9∶68之間。
9.如權(quán)利要求7所述的數(shù)字微鏡設(shè)備,其特征在于,所述至少一列中的數(shù)字微鏡的數(shù)目比所述至少一行中的數(shù)字微鏡的數(shù)目的比率在9∶16與7∶21之間。
10.一種用于直接光刻的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:
至少一個(gè)空間光調(diào)制器,每一個(gè)空間光調(diào)制器包括:
光源,所述光源能夠發(fā)射激光;
折射鏡,所述光源發(fā)射的所述激光可被引導(dǎo)至所述折射鏡;
鏡面陣列,所述鏡面陣列配置成用于反射所述折射鏡折射的所述激光;以及
透鏡,所述透鏡配置成用于折射所述鏡面陣列反射的所述激光;
載物臺(tái),所述載物臺(tái)能夠支撐所述激光所指向的基板,其中,所述載物臺(tái)配置成在X軸方向上移動(dòng);以及
控制器,所述控制器配置成用于控制所述鏡面陣列中的每一個(gè)鏡面的角度;
其中,所述鏡面陣列包括第一數(shù)目的鏡面和第二數(shù)目的鏡面,所述第一數(shù)目的鏡面在所述X軸方向上對(duì)齊,所述第二數(shù)目的鏡面在Y軸方向上對(duì)齊,所述第二數(shù)目大于所述第一數(shù)目。
11.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其特征在于,所述鏡面陣列中的每一個(gè)鏡面在至少兩種設(shè)置之間是可移動(dòng)的,所述設(shè)置包括:
表示接通條件的角度;以及
表示關(guān)斷條件的角度。
12.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng),其特征在于,表示所述關(guān)斷條件的角度將所述激光引導(dǎo)至射束收集器。
13.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng),其特征在于,表示所述接通條件的角度經(jīng)由透鏡將所述光引導(dǎo)向所述基板上的目標(biāo)。
14.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其特征在于,所述第一數(shù)目比所述第二數(shù)目的比率在3∶4與7∶21之間。
15.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其特征在于,所述第一數(shù)目比所述第二數(shù)目的比率為9∶16。
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