[實用新型]純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板

有效

• 申請號: 201520813285.0
• 申請日: 2015-10-21
• 公開（公告）號: CN205024316U
• 公開（公告）日: 2016-02-10
• 發明（設計）人: 張心鳳;鄭杰;尹輝
• 申請（專利權）人: 安徽純源鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及材料表面處理技術領域，具體涉及一種純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板。

背景技術

純離子鍍膜裝置廣泛應用在零件的外表面鍍膜生產中，生產后的待鍍膜零件上利用純離子鍍膜裝置在零件的表面鍍設一層或者數層涂層，以改變被鍍零部件的表面性能。純離子鍍膜裝置主要由真空抽氣系統、陰極靶材、陽極、過濾器、鍍膜腔室、基片和一些輔助零部件構成，其中，所述的過濾器整體呈現直角彎管狀結構。從陰極靶材表面激發出來的等離子體向過濾器入口方向移動，過濾器的另一端出口與鍍膜腔室連通，所述待鍍膜的基片設置在鍍膜腔室內，過濾后的離子束通過過濾器并沉降在基片上，從而完成鍍膜過程，其中，過濾器一方面構成等離子體的通道，另一方面起到吸收或儲存雜質顆粒，阻止較大的顆粒穿過過濾器，從而減少顆粒灰塵對鍍膜腔室的污染，起到保持鍍膜腔室的清潔的作用。

各種材料的表面都黏附著氣體分子、雜質、顆粒等，在受到加熱或轟擊時，這些顆粒、雜質等會吸收能量而逃逸出過濾器吸附表面，從而污染鍍膜環境和被鍍膜基片的表面。即使基片被放進腔室前被清洗干凈，在受到顆粒、雜質的污染后，也有可能變臟，導致納米膜層的顆粒較多或較大，在純離子鍍膜源被預熱或者開始工作的前10-15分鐘，大量黏附在過濾器的內表面的顆粒、雜質，因為溫度升高或者受到轟擊獲得足夠的能量而逃逸出吸附表面，污染了鍍膜腔室環境和被鍍基片表面，致使膜層顆粒較大，膜層黏附性能也受到影響。

實用新型內容

本實用新型的目的在于：提供一種純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板，在確保等離子體通過地同時，防止灰塵顆粒由過濾器進入鍍膜腔室。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板，包括陰極靶材，所述陰極靶材產生的等離子體向過濾器的入口移動，陰極靶材周圍設置有陽極，過濾器的出口與鍍膜腔室連通，所述鍍膜腔室內放置基片，所述過濾器的出口位置處擺動式設置有翻板，擺動式翻板呈現用于封堵過濾器的出口及與過濾器之間形成供離子束通過的通道的兩種位置狀態。

與現有技術相比，本實用新型具備的技術效果為：該翻板既能有效遮擋雜質顆粒，又不會對抽氣性能產生較大影響。在純離子鍍膜源預熱或工作前，翻板處在關閉位置，確保溫升過程中產生的雜質顆粒不會逃逸出過濾器而污染腔室和基片，當溫度狀態和真空度趨于穩定，鍍膜環境比較清潔，翻板自動開啟，開始納米薄膜沉積。自動保護翻板把基片和預熱或者鍍膜初期產生的雜質顆粒隔離開來，有效地減少了納米膜層的顆粒。

附圖說明

圖1是純離子鍍膜裝置結構示意圖。

具體實施方式

結合圖1，對本實用新型作進一步地說明：

一種純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板，包括陰極靶材10，所述陰極靶材10產生的等離子體向過濾器20的入口移動，陰極靶材10周圍設置有陽極30，過濾器20的出口與鍍膜腔室40連通，所述鍍膜腔室40內放置基片50，所述過濾器20的出口位置處設置有擺動式翻板60，擺動式翻板60呈現用于封堵過濾器20的出口及與過濾器20之間形成供等離子體通過的通道的兩種位置狀態。

該翻板60既能有效遮擋雜質顆粒，又不會對抽氣性能產生較大影響。在純離子鍍膜源預熱或工作前，翻板60處在關閉位置，確保溫升過程中產生的雜質顆粒不會逃逸出過濾器20而污染鍍膜腔室40和基片50，當溫度狀態和真空度趨于穩定，鍍膜環境比較清潔，翻板20自動開啟，開始納米薄膜沉積。自動保護翻板60把基片50和預熱或者鍍膜初期產生的雜質顆粒隔離開來，有效地減少了納米膜層的顆粒。

作為本實用新型的優選方案，所述過濾器20的出口位置處還設置有灰塵擋板70，所述灰塵擋板70上開設有供等離子體形成的離子束a通過的通孔71，所述翻板60設置在灰塵擋板70的前方，灰塵擋板70與翻板60之間間隔布置，結合圖1所示，受熱或者轟擊產生的灰塵、雜質顆粒首先受到灰塵擋板70的阻擋作用，該灰塵擋板70阻擋了大部分的灰塵顆粒，即使有小部分的灰塵顆粒由通孔71位置處逃逸出，翻板60可起到進一步的阻擋作用，從而避免灰塵顆粒對鍍膜腔室40的清潔度的影響。

進一步優選地，所述翻板60與灰塵擋板70之間距離范圍是5～10mm。

結合圖1所示，所述翻板60的面積大于通孔71面積，翻板60的邊緣和通孔71是我邊緣連線與水平中心線之間的夾角b范圍在40°～50°之間。