[實用新型]純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520813285.0 | 申請日: | 2015-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN205024316U | 公開(公告)日: | 2016-02-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張心鳳;鄭杰;尹輝 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽純源鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子 鍍膜 裝置 過濾器 隔灰翻板 | ||
1.一種純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板,包括陰極靶材(10),所述陰極靶材(10)產(chǎn)生的等離子體向過濾器(20)的入口移動,陰極靶材(10)周圍設(shè)置有陽極(30),過濾器(20)的出口與鍍膜腔室(40)連通,所述鍍膜腔室(40)內(nèi)放置基片(50),其特征在于:所述過濾器(20)的出口位置處設(shè)置有擺動式翻板(60),擺動式翻板(60)呈現(xiàn)用于封堵過濾器(20)的出口及與過濾器(20)之間形成供等離子體通過的通道的兩種位置狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板,其特征在于:所述過濾器(20)的出口位置處還設(shè)置有灰塵擋板(70),所述灰塵擋板(70)上開設(shè)有供等離子體通過的通孔(71),所述翻板(60)設(shè)置在灰塵擋板(70)的前方,灰塵擋板(70)與翻板(60)之間間隔布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板,其特征在于:所述翻板(60)與灰塵擋板(70)之間距離范圍是5~10mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板,其特征在于:所述翻板(60)的面積大于通孔(71)面積,翻板(60)的邊緣和通孔(71)的邊緣連線與水平中心線之間的夾角范圍在40°~50°之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板,其特征在于:所述過濾器(20)整體呈直角彎管狀結(jié)構(gòu),過濾器(20)的一端管口構(gòu)成入口,過濾器(20)的另一端的管口構(gòu)成出口,過濾器(20)的出口與鍍膜腔室(40)密封連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的純離子鍍膜裝置過濾器的隔灰翻板,其特征在于:所述陽極(30)呈管狀結(jié)構(gòu),所述陰極靶材(10)設(shè)置在陽極(30)的管腔內(nèi),陽極(30)的管端與過濾器(20)的入口構(gòu)成密封連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于安徽純源鍍膜科技有限公司,未經(jīng)安徽純源鍍膜科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520813285.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





