[實用新型]一種掩膜提籃

有效

• 申請號: 201520799305.3
• 申請日: 2015-10-16
• 公開（公告）號: CN204966469U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: 徐彬;王福強
• 申請（專利權）人: 山東百利通亞陶科技有限公司
• 主分類號: H01L21/673
• 分類號: H01L21/673
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 閆曉燕

技術領域

本實用新型涉及一種掩膜提籃。

背景技術

在半導體晶片制作工藝過程中，固定晶片鍍膜需要用到掩膜，因此掩膜是必不可少的工具，并且需要的數量很大。掩膜在不同工序間搬運的過程中，一般是通過提籃完成的。現有的提籃包括盒體，盒體的前側面開口設置，其余各側面均為封閉設置，盒體的頂部設有提手，在盒體的左側板內側面上和右側板內側面上從上到下間隔設有若干個一一對應設置的左凸臺和右凸臺。使用時，將掩膜從盒體的前側面插入盒體內，并放置在相對應的左凸臺和右凸臺上，然后工人手拿提手將裝有掩膜的盒體移至下一道工序。然而，現有的提籃存在以下缺點：一、由于掩膜在盒體內是上下正對應排列設置，相鄰兩掩膜之間的距離較小，工人在操作時都帶著膠皮手套，因此操作時工人不易從盒體中抽出掩膜，尤其是工人的手較大時，影響了工作效率；二、在使用過程中，左凸臺和右凸臺上很容易存儲污染物，裝載的晶片很容易粘上這些污染物，從而對晶片造成污染。

實用新型內容

本實用新型提供了一種掩膜提籃，它結構設計合理，在充分利用盒體內空間的情況下，使用時增加了上下相鄰兩掩膜之間的距離，從而便于工人抽出掩膜，提高了工作效率，并且不易使污染物存儲在左凸臺、右凸臺處，不會對晶片造成污染，解決了現有技術中存在的問題。

本實用新型為解決上述技術問題所采用的技術方案是：它包括盒體，盒體的前側面開口設置，在盒體的頂板外側面上設有提手，在盒體內中部設有垂直于盒體后側板的立板，立板從上到下間隔設有若干個向左凹的左凹槽，立板從上到下間隔設有若干個向右凹的右凹槽，左凹槽和右凹槽交錯設置，在與每個左凹槽的開口正對應的盒體右側板內側面上設有右凸臺，在與每個右凹槽的開口正對應的盒體左側板內側面上設有左凸臺，在立板的左凹槽和右凹槽上密布有若干個第一漏孔，在盒體的左側板、右側板、后側板上密布有若干個第二漏孔。

所述盒體的左側板、右側板、后側板、頂板、底板均為鋁復合板；鋁復合板包括芯層板、在芯層板的兩側設有第一表層板和第二表層板，在芯層板上均勻壓制有若干個凸起，若干個凸起的凸起高度和凸起方向相同，第一表層板通過第一膠粘層與芯層板粘接，第二表層板通過第二膠粘層與芯層板粘接。

所述第一表層板和第二表層板為鋁板。

所述凸起為球面凸起或橢球面凸起。

還包括提籃罩，提籃罩包括罩體，罩體的底部開口設置，罩體的頂部對應于提手的位置設有與提手相適應的插孔。

所述罩體為透明設置。

所述左凹槽的下側面與右凸臺的頂面平齊，所述右凹槽的下側面與左凸臺的頂面平齊。

在盒體的底板上設有固定孔。

本實用新型采用上述方案，具有以下優點：

1、正對應的左凹槽與右凸臺、相對應的右凹槽與左凸臺在盒體內上下交錯設置，當掩膜放置在盒體內時是上下交錯排列的，本實用新型在充分利用盒體內空間的情況下，增加了上下相鄰兩掩膜之間的距離，從而便于工人抽出掩膜，提高了工作效率。

2、在立板的左凹槽和右凹槽上密布有若干個第一漏孔，在盒體的左側板、右側板、后側板上密布有若干個第二漏孔。這種結構設計不易使污染物存儲在左凸臺、右凸臺處，污染物能夠通過第一漏孔、第二漏孔漏出，從而不會對晶片造成污染。

3、鋁復合板包括芯層板、在芯層板的兩側設有第一表層板和第二表層板，在芯層板上均勻壓制有若干個凸起，若干個凸起的凸起高度和凸起方向相同，第一表層板通過第一膠粘層與芯層板粘接，第二表層板通過第二膠粘層與芯層板粘接。凸起的成型非常方便，直接在芯層板上利用壓輥可壓制出來，然后利用第一膠粘層將第一表層板與芯層板粘接、第二膠粘層將第二表層板與芯層板粘接。這種結構設計在保證一定強度的情況下，通過凸起使鋁復合板的厚度增加，使鋁復合板單位厚度的重量降低，從而使整個鋁復合板的重量降低，減輕了工人的勞動強度。

4、在裝有掩膜的盒體移至下一道工序時，將提籃罩罩設在盒體上，即將提籃罩從盒體上方向下移動，使盒體上的提手穿過提籃罩的插孔，使提籃罩罩設在盒體上。提籃罩的作用有：一、由于盒體的前側面開口設置，在搬運的過程中，掩膜容易從盒體的前側面滑出，從而造成掩膜上晶片的損壞；二、通過提籃罩使提籃內裝載的掩膜保持相對密閉的環境，避免在搬運的過程中污染物對掩膜上的晶片造成污染。

5、罩體為透明設置，從而便于工人觀察掩膜的狀況。

6、左凹槽的下側面與右凸臺的頂面平齊，右凹槽的下側面與左凸臺的頂面平齊，當掩膜放置在左凹槽、右凸臺及右凹槽、左凸臺上時，掩膜處于水平位置。