[實用新型]一種陣列基板及顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520791311.4
• 申請日: 2015-10-14
• 公開（公告）號: CN204945589U
• 公開（公告）日: 2016-01-06
• 發(fā)明（設計）人: 于春崎;柳發(fā)霖;李林;莊崇營;何基強;雷國獎
• 申請（專利權）人: 信利半導體有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1333
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 鄧義華;陳衛(wèi)

1.一種陣列基板，包括基板和依次由下往上覆蓋在基板上的第一金屬層、第一絕緣層、第二金屬層，第二絕緣層、透明導電層，其特征在于，所述第一絕緣層上刻蝕有至少第一過孔，所述第一金屬層和第二金屬層通過第一絕緣層上的第一過孔短接；所述第二絕緣層上刻蝕有至少第二過孔，所述第二金屬層和導電層通過第二絕緣層上的第二過孔短接；所述第一金屬層和透明導電層通過第二金屬層為媒介，實現(xiàn)短接。

2.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層和第二絕緣層的過孔完全重疊，或者部分重疊，或者完全不重疊。

3.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層和第二絕緣層的過孔的刻蝕方法是干法刻蝕，或者是濕法刻蝕。

4.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述基板為玻璃基板，或其它具有光學屬性的透明基板。

5.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述第一金屬層為柵極金屬層，主要材料為鋁、銅、鉬、鉻之一或其它導電材料。

6.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層為柵絕緣層，主要材料是氮化硅、氧化硅、氧化鋁之一或其它絕緣材料。

7.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述第二金屬層為源極和漏極金屬層，主要材料為鋁、銅、鉬、鉻之一或其它導電材料。

8.根據(jù)權利要求1所述陣列基板，其特征在于，所述第二絕緣層為鈍化層，主要材料是氮化硅、氧化硅、氧化鋁之一或其它絕緣材料。

9.一種顯示裝置，包括下偏光片、陣列基板、液晶材料、彩色濾光層和上偏光片，其特征在于，所述陣列基板為權利要求1至7中任一陣列基板。