[實用新型]一種具有背面對準功能的無掩膜直寫光刻機吸盤結構

有效

• 申請號: 201520764902.2
• 申請日: 2015-09-30
• 公開（公告）號: CN204989749U
• 公開（公告）日: 2016-01-20
• 發明（設計）人: 曹常瑜
• 申請（專利權）人: 合肥芯碁微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 合肥天明專利事務所 34115
• 代理人: 張祥騫;奚華保

技術領域

本實用新型涉及無掩膜直寫光刻機技術領域，具體來說是一種具有背面對準功能的無掩膜直寫光刻機吸盤結構。

背景技術

吸盤是無掩膜直寫光刻設備的重要組成部分，在工作過程中，吸盤通過真空吸附將需要刻蝕的基板緊緊貼合在工作臺面，保證在刻蝕過程中基板的平整度，實現背面對準的圖像采集，清晰采集基底背面的參考標記，并將采集到的圖像傳送到圖像接收系統中。背面對準主要是通過轉像裝置觀察基底（基板）上的參考標記，并通過轉像裝置的物像關系計算出真實基底的工作平臺坐標，然后通過基底-工作平臺坐標轉換關系，將基底上的坐標點對映到工作平臺坐標上來。

雖然在半導體光刻設備中，也有多種背面對準方式，其中所采用的光機結構也不盡相同，其均需要外加光源和圖像接收系統，存在占用過多空間、結構復雜、操作復雜度高的缺點。如何簡化基底的對準方式已經成為急需解決的技術問題。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中結構復雜、操作復雜度高的缺陷，提供一種具有背面對準功能的無掩膜直寫光刻機吸盤結構來解決上述問題。

為了實現上述目的，本實用新型的技術方案如下：

一種具有背面對準功能的無掩膜直寫光刻機吸盤結構，包括上吸盤和下吸盤，上吸盤和下吸盤兩者固定安裝，基板吸附在上吸盤的正面上，

所述的上吸盤的背面開設有左安裝槽和右安裝槽，左安裝槽和右安裝槽兩者位于上吸盤的同一條直徑上且兩者呈鏡像對應，左圖像采集組件安裝在左安裝槽內，右圖像采集組件安裝在右安裝槽內，左圖像采集組件和右圖像采集組件兩者結構相同；

上吸盤上分別設有通光孔A、通光孔B、通光孔C和通光孔D，通光孔A和通光孔B分別位于左圖像采集組件的兩個反射棱鏡的上方，通光孔C和通光孔D分別位于右圖像采集組件的兩個反射棱鏡的上方，通光孔B和通光孔C分別與基板的兩個參考標記相對應，通光孔A和通光孔D均位于基板的外圍。

所述的左圖像采集組件包括基座，基座安裝在左安裝槽內，基座上依次安裝有反射棱鏡A、光學成像通道和反射棱鏡B，反射棱鏡A、光學成像通道和反射棱鏡B三者在同一條直線上，反射棱鏡A和反射棱鏡B兩者呈鏡像對應。

所述的上吸盤上設有開口槽。

所述的上吸盤和下吸盤均覆有黑色氧化膜。

有益效果

本實用新型的一種具有背面對準功能的無掩膜直寫光刻機吸盤結構，與現有技術相比能夠適用于背面對準的圖像采集，且吸盤體可直接置于工作平臺上工作。通過圖像采集裝置內置于吸盤體中的設計，成像系統設計波段包含了無掩膜直寫光刻設備自身照明系統輻射源波段，這樣無需外加光源、無需外加圖像接收系統，直接利用直寫光刻機本身光源、圖像接收系統接收背面對準所采集的圖像，降低了背面對準的操作復雜性和成本。并可根據不同需求合理更改吸盤體及光機件尺寸，用于實現背面對準圖像的清晰準確采集，具有結構簡單、設計合理、布局巧妙的特點。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構立體圖；

圖2為本實用新型的結構正視圖；

圖3為本實用新型中上吸盤背面的結構示意圖；

圖4為本實用新型中下吸盤的結構示意圖；

圖5為本實用新型中左圖像采集組件的結構示意圖；

圖6為本實用新型的工作原理示意圖；

其中，1-上吸盤、2-下吸盤、4-參考標記、5-吸盤體、6-氣道、7-抽氣孔、8-聯通孔、9-定位孔、10-吸氣孔、11-開口槽、14-反射棱鏡B、15-通光孔E、16-光學成像通道、17-通光孔F、18-反射棱鏡A、19-硅板定位反射鏡、20-參考標記的反射成像、21-投影系統、22-基板、24-左安裝槽、25-右安裝槽、26-左圖像采集組件、27-右圖像采集組件、28-基座、31-通光孔A、32-通光孔B、33-通光孔C、34-通光孔D。

具體實施方式

為使對本實用新型的結構特征及所達成的功效有更進一步的了解與認識，用以較佳的實施例及附圖配合詳細的說明，說明如下：