[實用新型]一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極

有效

• 申請號: 201520718921.1
• 申請日: 2015-09-16
• 公開（公告）號: CN204959025U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: 郭愛云;趙燦東;周學卿;黃定平
• 申請（專利權）人: 河源市璐悅自動化設備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州凱東知識產權代理有限公司 44259
• 代理人: 姚迎新

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射裝置領域，特別涉及一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極。

背景技術

大面積磁控濺射廣泛應用于光學、半導體、光電顯示、納米材料、集成線路和建筑裝飾等行業，在目前的真空鍍膜設備中，矩形平面濺射陰極是其核心設備，尤其是在大面積真空鍍膜設備中更是如此。平面陰極是最早設計和廣泛應用的陰極濺射系統，尤其為直流磁控濺射工藝在金屬材料和類金屬材料的濺射沉積鍍膜領域的廣泛應用。作為成熟的穩定性最好的磁控濺射陰極結構設計，大面積線性平面磁控濺射陰極有很多衍生的設計；目前廣泛應用在鍍膜工業行業中大的矩形平面濺射陰極，其在陰極周圍設有屏蔽罩，屏蔽罩下端連接有陽極框，其中，陽極框、屏蔽罩與電源正極、地線相連并與陰極體保持一定的距離，零電位的屏蔽罩截獲非靶材發射出的電子，避免氬氣電離產生輝光放電，阻止靶座等部件產生濺射，有效保證鍍膜質量，但是這些陰極設計都存在濺射靶材利用率不不高、濺射沉積不均勻和陰極冷卻效果不佳的問題，影響和限制了線性平面陰極在大面積磁控濺射領域的應用。

公開號為CN203021644U的中國專利，公開了一種帶有磁芯軸裝置的鍍膜用陰極磁棒裝置，鍍膜陰極靶的濺射速率，沉積速率和靶材利用率還是不夠，使線性平面陰極應用受到影響。

實用新型內容

為了克服上述所述的不足，本實用新型的目的是提供一種利用率高、濺射沉積均勻、陰極冷卻效果好的磁控濺射鍍膜用的平面陰極。

本實用新型解決其技術問題的技術方案是：

一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極，其中，包括濺射靶、靶套、真空腔體、絕緣座、陰極座、銅背板、可調磁極板、基片架，所述靶套通過第一真空密封圈與所述真空腔體密封連接；所述絕緣座通過第二真空密封圈與所述靶套連接；所述陰極座通過第三真空密封圈與所述絕緣座連接；所述銅背板通過第四真空密封圈與所述陰極座連接；所述陰極座與所述銅背板之間形成冷卻水腔；所述濺射靶固定在所述銅背板上；所述可調磁極板固定在所述冷卻水腔內，所述可調磁極板與所述基片架連接。

作為本實用新型的一種改進，所述靶套緊固連接有陽極座，所述靶套與所述陽極座之間設置有工藝進氣道，所述陽極座上緊固連接有均氣壓板。

作為本實用新型的進一步改進，所述可調磁極板設置有S極磁極、N極磁極、極靴座、極靴蓋、磁板定位柱、磁板鎖緊螺母、水密封蓋、調整座、調整桿和調整螺母；所述S極磁極和N極磁極處在所述極靴座與所述極靴蓋之間形成的極靴空間里，所述S極磁極和N極磁極固定在所述磁極板定位柱上，所述磁板鎖緊螺母、所述調整螺母分別與所述調整桿配合連接，所述調整桿通過第五真空密封圈與所述陰極座連接，所述調整螺母固定在所述調整座上。

作為本實用新型的更進一步改進，所述陰極座設置有進水孔和出水孔，所述進水孔和出水孔分別與所述冷卻水腔相連。

作為本實用新型的更進一步改進，所述絕緣座的材料為聚甲醛。

本實用新型的一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極包括濺射靶、靶套、真空腔體、絕緣座、陰極座、銅背板、可調磁極板、基片架，靶套通過第一真空密封圈與真空腔體密封連接；絕緣座通過第二真空密封圈與靶套連接；陰極座通過第三真空密封圈與絕緣座連接；銅背板通過第四真空密封圈與陰極座連接；陰極座與銅背板之間形成冷卻水腔；濺射靶固定在銅背板上；可調磁極板固定在冷卻水腔內，可調磁極板與基片架連接。在本實用新型中，通過采用全水冷的方式對銅背板進行冷卻，在生產過程中可以最大化的帶走濺射產生的熱量；而且還通過采用可調磁極板全水冷的方式進行磁極板冷卻，因此磁場的穩定性強，可以長期保持磁場的穩定性；另外，各部件的結合處采用靜密封，密封效果好，有效地防止了漏水、漏氣和陰極短路現象的發生，減少了維修成本，使得本實用新型使用壽命增長。本實用新型濺射靶利用率高、濺射沉積均勻、陰極冷卻效果好。

附圖說明

為了易于說明，本實用新型由下述的較佳實施例及附圖作以詳細描述。

圖1為本實用新型的主視圖；

圖2為圖1的左視圖；

圖3為圖1的俯視圖；

圖4為本實用新型的一個實施例的主視圖；

圖5為圖4的左視圖；

圖6為圖4的俯視圖；