[實用新型]一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置有效
| 申請號： | 201520692195.0 | 申請日： | 2015-09-08 |
| 公開（公告）號： | CN205079744U | 公開（公告）日： | 2016-03-09 |
| 發明（設計）人： | 施麗敏 | 申請（專利權）人： | 上海現代先進超精密制造中心有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 上海順華專利代理有限責任公司 31203 | 代理人： | 陳淑章 |
| 地址： | 200433 上海市楊*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 拋物面鏡 精度 檢測 裝置 | ||
1.一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于，該裝置由斐索干涉儀(1)、標準球面鏡(2)、輔助凹球面柱(4)、基座盤(8)、五維調整架(7)、標準平面鏡(5)、二維調整架(6)、承托固定底板(9)、第一底座(10)以及第二底座(11)組成；
所述斐索干涉儀(1)上安裝有所述標準球面鏡(2)，所述標準球面鏡(2)是所述斐索干涉儀(1)的光束輸出窗口；
所述基座盤(8)位于所述斐索干涉儀(1)的下方，所述基座盤(8)上設有待測離軸拋物面鏡(3)和輔助凹球面柱(4)；
所述基座盤(8)設于所述五維調整架(7)頂面；
所述標準平面鏡(5)設于所述二維調整架(6)的底面；
所述二維調整架(6)位于所述待測離軸拋物面鏡(3)的上方；
所述五維調整架(7)固定于所述承托固定底板(9)上；
所述承托固定板(9)設于所述第二底座(11)上；
所述斐索干涉儀(1)、二維調整架(6)設于所述第一底座(10)上。
2.根據權利要求1所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述基座盤(8)呈圓形，所述輔助凹球面柱(4)設于所述基座盤(8)的中心處，所述待測離軸拋物面鏡(3)在所述基座盤(8)的四周呈中心對稱分布。
3.根據權利要求1所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述輔助凹球面柱(4)的凹球面曲率半徑與所述待測離軸拋物面鏡(3)的焦距相等。
4.根據權利要求3所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述凹球面的最低點與所述待測離軸拋物面鏡(3)的頂點重合。
5.根據權利要求1所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述輔助凹球面柱(4)直徑為20-50mm。
6.根據權利要求1所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述二維調整架(6)具有Tip和Tilt二維調整。
7.根據權利要求1所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述五維調整架(7)具有X、Y、Z、Tip和Tilt五維調整。
8.根據權利要求1所述的一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測裝置，其特征在于：所述離軸拋物面鏡為凹面鏡。
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