[實(shí)用新型]一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520692195.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-09-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN205079744U | 公開(公告)日: | 2016-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 施麗敏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海現(xiàn)代先進(jìn)超精密制造中心有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/24 | 分類號(hào): | G01B11/24 |
| 代理公司: | 上海順華專利代理有限責(zé)任公司 31203 | 代理人: | 陳淑章 |
| 地址: | 200433 上海市楊*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 拋物面鏡 精度 檢測(cè) 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及光學(xué)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體是一種基于斐索干涉儀的離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)
光學(xué)元件的傳統(tǒng)檢測(cè)方法與技術(shù)已沿用了數(shù)十年。光學(xué)檢測(cè)涉及被測(cè)元件材料、口徑、種類以及測(cè)試技術(shù)、儀器和設(shè)備等。被測(cè)元件的種類繁多,包括有平行平板、球面、非球面、自由曲面、衍射光柵、錐鏡、柱面透鏡等,非球面中有特殊的非球面如拋物面、橢球面、雙曲面和除此以外的其它非球面。光學(xué)檢測(cè)中常用的主要儀器可分為干涉儀類、表面輪廓儀類、MTF測(cè)試儀類、精密球徑儀類、焦距與偏心測(cè)試儀器類及其它儀器等。
國內(nèi)外都在研制和發(fā)展各自的先進(jìn)儀器。國內(nèi)以南京理工大學(xué)和成都太科公司為代表的干涉儀制造廠家,各類數(shù)字式干涉儀的產(chǎn)品口徑有Φ25mm~Φ600mm;進(jìn)口以美國Zygo公司為代表的從口徑4″~32″的各類干涉儀;Zygo公司以3D干涉顯微鏡為基本原理發(fā)展的非接觸式表面輪廓儀,從早期的Maxim3D5700到現(xiàn)代最新的ZemapperSystem等;英國Tayloy-Hobson觸針式輪廓儀;滿足實(shí)際需求的三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x、4D干涉儀等。然而,在光學(xué)檢測(cè)儀器和技術(shù)應(yīng)用上,仍存在很多問題和不足,比如使用輪廓儀無法得到整個(gè)面的面形精度,使用平面鏡測(cè)量則受限于平面鏡的大小。
目前,尚未有關(guān)于離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種基于斐索干涉儀的離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置,該裝置能夠快速準(zhǔn)確地測(cè)量離軸拋物面鏡的面形精度。
為了達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型提供了一種離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置,該裝置由斐索干涉儀、標(biāo)準(zhǔn)球面鏡、輔助凹球面柱、基座盤、五維調(diào)整架、標(biāo)準(zhǔn)平面鏡、二維調(diào)整架、承托固定底板、第一底座以及第二底座組成;
所述斐索干涉儀上安裝有所述標(biāo)準(zhǔn)球面鏡,所述標(biāo)準(zhǔn)球面鏡是所述斐索干涉儀的光束輸出窗口;
所述基座盤位于所述斐索干涉儀的下方,所述基座盤上設(shè)有待測(cè)離軸拋物面鏡和輔助凹球面柱;
所述基座盤設(shè)于所述五維調(diào)整架頂面;
所述標(biāo)準(zhǔn)平面鏡設(shè)于所述二維調(diào)整架的底面;
所述二維調(diào)整架位于所述待測(cè)離軸拋物面鏡的上方;
所述五維調(diào)整架固定于所述承托固定底板上;
所述承托固定板設(shè)于所述第二底座上;
所述斐索干涉儀、二維調(diào)整架設(shè)于所述第一底座上。
所述基座盤呈圓形,所述輔助凹球面柱設(shè)于所述基座盤的中心處,所述待測(cè)離軸拋物面鏡在所述基座盤的四周呈中心對(duì)稱分布。
所述輔助凹球面柱的凹球面曲率半徑與所述待測(cè)離軸拋物面鏡的焦距相等。
所述凹球面的最低點(diǎn)與所述待測(cè)離軸拋物面鏡的頂點(diǎn)重合。
所述輔助凹球面柱直徑為20-50mm。
所述二維調(diào)整架具有Tip和Tilt二維調(diào)整。
所述五維調(diào)整架具有X、Y、Z、Tip和Tilt五維調(diào)整。
所述離軸拋物面鏡為凹面鏡。
本實(shí)用新型的有益效果是通過使用不同標(biāo)準(zhǔn)球面鏡來測(cè)量不同尺寸的離軸拋物面鏡,擴(kuò)大了測(cè)量范圍,并且能夠快速準(zhǔn)確地測(cè)量離軸拋物面鏡的面形精度。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置的左視圖;
圖3為本實(shí)用新型離軸拋物面鏡面形精度的檢測(cè)裝置的光路圖;
圖4為標(biāo)準(zhǔn)平面鏡及其二維調(diào)整架的仰視圖;
圖5為待測(cè)離軸拋物面鏡的三視圖;其中,a為正視圖,b為左視圖,c為俯視圖;
圖6為基座盤包含輔助凹球面柱與待測(cè)離軸拋物面鏡的俯視圖及剖面圖。
圖中:1—斐索干涉儀,2—標(biāo)準(zhǔn)球面鏡,3—待測(cè)離軸拋物面鏡,4—輔助凹球面柱,5—標(biāo)準(zhǔn)平面鏡,6—二維調(diào)整架,7—五維調(diào)整架,8—基座盤,9—承托固定底板,10—第一底座,11—第二底座;
100—斐索干涉儀發(fā)出的平行球面單色光,200—經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)球面鏡透射的球面光線,300—經(jīng)輔助凹球面柱反射的光線,400—經(jīng)待測(cè)離軸拋物面鏡反射的平行光線,500—經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)平面鏡再次反射回的平行光線,600—經(jīng)待測(cè)離軸拋物面鏡再次反射匯聚的光線,700—經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)球面鏡折射回干涉儀的光線;
A—標(biāo)準(zhǔn)球面鏡的內(nèi)反射面,A’—標(biāo)準(zhǔn)球面鏡的外表面,B—待測(cè)離軸拋物面鏡,C—輔助凹球面鏡的表面,O—輔助凹球面的中心點(diǎn)(拋物面頂點(diǎn))。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海現(xiàn)代先進(jìn)超精密制造中心有限公司,未經(jīng)上海現(xiàn)代先進(jìn)超精密制造中心有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520692195.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)組件、檢測(cè)裝置以及檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
- 檢測(cè)電路、檢測(cè)裝置及檢測(cè)系統(tǒng)





