[實用新型]自動防焊曝光臺框模組及曝光機

有效

• 申請號: 201520683946.2
• 申請日: 2015-09-02
• 公開（公告）號: CN204945616U
• 公開（公告）日: 2016-01-06
• 發明（設計）人: 袁強;劉長征
• 申請（專利權）人: 東莞市海圣光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 陳正興

1.一種自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：包括上框、上玻璃、上底片、薄膜介質、活動框和下框，活動框搭設于下框上方，薄膜介質套設于活動框上，待曝光的線路板位于薄膜介質上方；上底片放置于線路板的上表面；上玻璃位于上底片上方，上框設于上玻璃上方；上框、上玻璃、薄膜介質、活動框和下框具有吸真空結構；其中，上框、上玻璃和上底片構成臺框模組的上面部分，薄膜介質、活動框和下框構成臺框模組的下面部分，線路板則放置于下面部分。

2.根據權利要求1所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：還包括下玻璃，屬于臺框模組的下面部分；下玻璃嵌設在活動框中，且位于薄膜介質下面。

3.根據權利要求2所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：在薄膜介質與線路板之間具有下底片，下底片放置于薄膜介質上；下底片上具有定位機構，將待曝光的線路板套在定位機構上。

4.根據權利要求3所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：所述下底片上的定位機構為若干定位釘，將待曝光的線路板套在下底片的定位釘上。

5.根據權利要求1所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：所述上玻璃設置有頂出裝置，嵌設在上玻璃開設的孔洞中，凸出于上玻璃表面。

6.根據權利要求1或5所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：所述上玻璃的吸真空結構包括吸氣孔和吸附溝槽，吸附溝槽圍繞上玻璃構成一圈，吸氣孔設于吸附溝槽的邊緣并與吸附溝槽連通。

7.根據權利要求1或5所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：所述上底片上設有對位點，線路板上設有對位靶，通過對位點與對位靶對線路板和上底片進行初步對位。

8.根據權利要求1所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于：所述薄膜介質為塑料薄膜，其四周嵌入于活動框中。

9.一種用于權利要求4所述的自動防焊曝光臺框模組曝光的曝光機，包括主機，主機連接有控制機構，主機具有對位平臺、光學對位裝置、臺框模組、曝光室、曝光光源和供電機構，臺框模組安裝于主機中；其特征在于：所述曝光光源包括上光源和下光源；活動框的邊框下方具有電磁鐵，對位平臺上具有電磁鐵吸附板，電磁鐵吸附板與電磁鐵對接；通過電磁鐵吸附板與電磁鐵吸附為一體，對位平臺上升帶動活動框整體上升離開下框與上底片進行對位。