[實用新型]一種刻蝕機托盤的真空測漏裝置有效

申請號：	201520658306.6	申請日：	2015-08-28
公開（公告）號：	CN204857682U	公開（公告）日：	2015-12-09
發明（設計）人：	游利	申請（專利權）人：	靖江先鋒半導體科技有限公司
主分類號：	H01L21/67	分類號：	H01L21/67
代理公司：	靖江市靖泰專利事務所 32219	代理人：	陸平
地址：	214500 江蘇省***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種刻蝕托盤真空裝置
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【權利要求書】：

1.一種刻蝕機托盤的真空測漏裝置，包括配重塊（1）、真空室（2），其特征在于：所述的真空室（2）內設置有裝配好的托盤（3），托盤（3）外圈上面設置有配重塊（1），真空室（2）與托盤（3）之間設置有第一密封圈（5），真空室（2）頂部通過螺釘固定有真空腔蓋（8），真空室（2）與真空腔蓋（8）之間設置有第二密封圈（6）；真空室（2）側面連接有氦質譜檢漏儀；所述的真空室（2）底面中心設置有氦氣接入口（4），側面設置有抽氣口（7）。

2.根據權利要求1所述的一種刻蝕機托盤的真空測漏裝置，其特征在于：所述的真空室（2）底面與托盤（3）外圈對應處設置有第一密封溝槽，真空室（2）頂面內圈設置有第二密封溝槽。

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