[實(shí)用新型]環(huán)保型硅片清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520583750.6
• 申請(qǐng)日: 2015-08-05
• 公開（公告）號(hào): CN204953432U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何晨旭;孔祥照;朱潔;朱姚培
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇榮馬新能源有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/10
• 分類號(hào): B08B3/10;B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 張惠忠

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種環(huán)保型硅片清洗裝置。

背景技術(shù)

隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，硅片的應(yīng)用越來越廣，在各種領(lǐng)域中都得到了應(yīng)用。

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。

硅片清洗時(shí)需要用到清洗裝置，但是一般的清洗裝置清洗效果比較差，硅片清洗后還要取出進(jìn)行甩干，操作起來比較麻煩，而且清洗后的清洗液往往直接排放，污染環(huán)境。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型發(fā)明的目的是提供一種環(huán)保型硅片清洗裝置，該環(huán)保型硅片清洗裝置解決了清洗裝置清洗效果不好、清洗后甩干操作不方便和清洗液直接排放污染環(huán)境的問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型的環(huán)保型硅片清洗裝置包括支架、清洗槽、表面開有孔洞的轉(zhuǎn)筒，清洗槽設(shè)置在支架上，清洗槽內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)筒，清洗槽下方設(shè)有電機(jī)，電機(jī)輸出端連接轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸延伸至清洗槽內(nèi)，轉(zhuǎn)軸與轉(zhuǎn)筒連接，所述轉(zhuǎn)筒內(nèi)壁上設(shè)有若干個(gè)硅片存放裝置，所述清洗槽上端設(shè)有進(jìn)水管，清洗槽內(nèi)設(shè)有溫度傳感器、加熱裝置、超聲波發(fā)生器，清洗槽外側(cè)設(shè)有控制器，溫度傳感器、加熱裝置分別與控制器連接，所述清洗槽底部連接出水管，出水管下端連接凈化裝置，凈化裝置下端連接排水管。

所述加熱裝置為加熱管。

所述電機(jī)為正反轉(zhuǎn)電機(jī)。

所述硅片存放裝置與轉(zhuǎn)筒內(nèi)壁卡槽連接。

所述凈化裝置由上至下依次包括過濾層、分解層、殺菌層。

采用這種環(huán)保型硅片清洗裝置，具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1、由于清洗槽內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)筒，清洗槽下方設(shè)有電機(jī)，電機(jī)輸出端連接轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸延伸至清洗槽內(nèi)，轉(zhuǎn)軸與轉(zhuǎn)筒連接，這樣在硅片清洗時(shí)，可以提高清洗效果，而且清洗完后，可以利用轉(zhuǎn)筒進(jìn)行甩干，操作起來非常方便；

2、由于清洗槽內(nèi)設(shè)有溫度傳感器、加熱裝置，溫度傳感器、加熱裝置分別與控制器連接，當(dāng)清洗槽內(nèi)的清洗液溫度高于或低于設(shè)定值范圍時(shí)，由控制器控制加熱裝置是否工作，這樣就能保證清洗液始終保持在最適宜的清洗溫度，提高了清洗效果；而且使用了超聲波發(fā)生器，進(jìn)一步提高了清洗效果；

3、由于清洗槽底部連接出水管，出水管下端連接凈化裝置，凈化裝置下端連接排水管，這樣可以對(duì)用過的清洗液進(jìn)行凈化處理，避免直接排放污染環(huán)境，而且可以凈化處理后二次利用。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

圖1是本實(shí)用新型環(huán)保型硅片清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中有：1.支架；2.清洗槽；3.轉(zhuǎn)筒；4.電機(jī)；5.轉(zhuǎn)軸；6.硅片存放裝置；7.進(jìn)水管；8.超聲波發(fā)生器；9.溫度傳感器；10.加熱裝置；11.控制器；12.出水管；13.凈化裝置；13.1.過濾層；13.2.分解層；13.3.殺菌層；14.排水管。

具體實(shí)施方式

圖1所示環(huán)保型硅片清洗裝置，包括支架1、清洗槽2、表面開有孔洞的轉(zhuǎn)筒3，清洗槽2設(shè)置在支架1上，清洗槽2內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)筒3，清洗槽2下方設(shè)有電機(jī)4，電機(jī)4輸出端連接轉(zhuǎn)軸5，轉(zhuǎn)軸5延伸至清洗槽2內(nèi)，轉(zhuǎn)軸5與轉(zhuǎn)筒3連接，所述轉(zhuǎn)筒3內(nèi)壁上設(shè)有若干個(gè)硅片存放裝置6，所述清洗槽2上端設(shè)有進(jìn)水管7，清洗槽2內(nèi)設(shè)有溫度傳感器9、加熱裝置10、超聲波發(fā)生器8，清洗槽2外側(cè)設(shè)有控制器11，溫度傳感器9、加熱裝置10分別與控制器11連接，所述清洗槽2底部連接出水管12，出水管12下端連接凈化裝置13，凈化裝置13下端連接排水管14。

所述加熱裝置10為加熱管。

所述電機(jī)4為正反轉(zhuǎn)電機(jī)。

所述硅片存放裝置6與轉(zhuǎn)筒3內(nèi)壁卡槽連接。

所述凈化裝置13由上至下依次包括過濾層13.1、分解層13.2、殺菌層13.3。