[實用新型]一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520571374.9
• 申請日: 2015-08-03
• 公開（公告）號: CN204855350U
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發(fā)明（設計）人: 陳基平;林星;徐璐
• 申請（專利權）人: 福建科彤光電技術有限公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01
• 代理公司: 北京京萬通知識產(chǎn)權代理有限公司 11440
• 代理人: 萬學堂

1.一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置，包括底座，其特征在于：所述底座上設有導軌滑槽，底座上方設有水平位移調(diào)節(jié)臺，水平位移調(diào)節(jié)臺上方設有垂直位移調(diào)節(jié)臺，垂直位移調(diào)節(jié)臺上方設有水平角位移調(diào)節(jié)臺，水平角位移調(diào)節(jié)臺上方設有標靶臺，標靶臺上設有標靶和水準泡，標靶上設有十字形標線。

2.如權利要求1所述的一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置，其特征在于：所述標靶為倍頻片。

3.如權利要求1所述的一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置，其特征在于：所述水準泡設有刻度，精度為5′。