[實用新型]一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置

有效

• 申請號: 201520571374.9
• 申請日: 2015-08-03
• 公開（公告）號: CN204855350U
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: 陳基平;林星;徐璐
• 申請（專利權）人: 福建科彤光電技術有限公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01
• 代理公司: 北京京萬通知識產權代理有限公司 11440
• 代理人: 萬學堂

技術領域

本實用新型涉及激光晶體檢測設備，特別是一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置。

背景技術

消光比是衡量激光晶體性能優劣的重要指標，它的定義如下：將晶體放置在兩平行偏光鏡間和兩正交偏光鏡間，使用光源從晶體一端入射，在出射端測量光功率，分別得到兩個值A和B，消光比即A和B之比取對數再乘以10。我們在使用激光晶體之前，需要了解與掌握晶體的各種性質，包括其物理和激光特性等，才能判斷某種晶體是否滿足我們的使用要求。同時，激光晶體的質量，直接影響使用者實驗的準確性和研究價值。例如晶體的消光比對于出射激光的光束質量有直接的影響。

在做激光晶體消光比檢測前需要對激光光路作一些調整檢測，這就需要用到一些標靶設備。目前使用比較普遍的是雙光闌法，在調節光源角度后需要調整第一個光闌使光路剛好從其中央穿過或者光源使其發出光纖剛好從第一個光闌中央通過，在反復調整中增加大量操作而且容易在調節過程中造成新的歪斜度；在調節不可見管光路系統時將紅外感應片貼近光闌觀察光斑是否位于光闌中央的精確度也受紅外感應片與光闌平面角度的影響。

實用新型內容

為了解決上述問題，本實用新型提供了一種使用方便可靠，可快速輔助調節激光光路的激光晶體消光比檢測用標靶裝置。

一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置，包括底座，底座上設有導軌滑槽，底座上方設有水平位移調節臺，水平位移調節臺上方設有垂直位移調節臺，垂直位移調節臺上方設有水平角位移調節臺，水平角位移調節臺上方設有標靶臺，標靶臺上設有標靶和水準泡，標靶上設有十字形標線。

優選地，所述標靶為倍頻片，倍頻片標靶在調整不可見光光路時不受倍頻片平面與光路軸線切線所成角度影響。

優選地，所述水準泡設有刻度，精度為5′。高精度的水準泡可以為調試員調試提供參考，使調試員快速發現問題，有利于提高調試員的工作效率。

本實用新型提供的一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置，簡單實用，不容易偏離準線，可以幫助調試人員快速有效的調整好設備，減少工作量的同時提高了他們的工作效率，是一個非常棒的產品結構設計。

附圖說明

圖1為本實用新型一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置使用結構示意圖；

圖2為本實用新型一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置的標靶結構示意圖；

圖3為本實用新型一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置的標靶臺結構示意圖。

圖1-3中，1為激光發射臺，2為導軌，3為底座，4為水平位移調節臺，5為垂直位移調節臺，6為水平角位移調節臺，7為標靶臺，8為標靶，9為十字形標線，10為水準泡。

具體實施方式

為了更好的對本實用新型進行闡述，下面將結合附圖作詳細說明。

如圖1-3所示，一種用于激光晶體消光比檢測的標靶裝置，包括底座3，底座3上設有導軌滑槽，底座3上方設有水平位移調節臺4，水平位移調節臺4上方設有垂直位移調節臺5，垂直位移調節臺5上方設有水平角位移調節臺6，水平角位移調節臺6上方設有標靶臺7，標靶臺7上設有標靶8和水準泡10，標靶7上設有十字形標線9。標靶8為倍頻片，水準泡10設有刻度，精度為5′。

工作時，激光發射機1發射激光，標靶裝置在導軌2上滑動到距離激光發射機1較近的位置，然后觀察水準泡10以及調節各參數，接著慢慢滑動標靶裝置，觀察光斑在標靶8上的位置變化，作進一步調整，直至標靶裝置在導軌2各點位置上的光斑都符合要求時，調試結束，接著做激光晶體消光比檢測試驗。

上述具體實施方式不能認為是對本實用新型的進一步限定，本領域技術人員根據本實用新型內容作出的非實質性改變均應落入本實用新型保護范圍內。