[實用新型]用于等離子體增強化學氣相沉積的設備有效
| 申請號: | 201520554309.5 | 申請日: | 2015-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN204982047U | 公開(公告)日: | 2016-01-20 |
| 發明(設計)人: | 馬建奎 | 申請(專利權)人: | 河北曹妃甸漢能薄膜太陽能有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 李志東 |
| 地址: | 063200 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 等離子體 增強 化學 沉積 設備 | ||
1.一種用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,包括:
爐體,所述爐體內限定出容納腔室;
加熱裝置,所述加熱裝置設在所述爐體的側壁上;
沉積單元,所述沉積單元位于所述容納腔室中,所述沉積單元頂部具有氣體入口,所述沉積單元內限定出沉積腔室,所述沉積腔室包括多個彼此隔開的子沉積腔室,每一個所述子沉積腔室中具有兩個平行間隔設置的玻璃基板,其中,所述玻璃基板中的一個與電極相連,所述玻璃基板中的另一個接地;以及
氣體管道,所述氣體管道穿過所述爐體與所述氣體入口相連,所述氣體管道包括位于所述容納腔室外的第一管段和位于所述容納腔室內的第二管段,所述第一管段和/或第二管段上具有預熱組件。
2.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述第一管段上具有第一預熱組件,所述第一預熱組件為電阻絲加熱器,所述電阻絲加熱器纏繞在所述第一管段上。
3.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述第二管段上具有第二預熱組件,所述第二預熱組件為電阻絲加熱器,所述電阻絲加熱器纏繞在所述第二管段上。
4.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述第一管段上具有第一預熱組件,所述第二管段上具有第二預熱組件,所述第一預熱組件和第二預熱組件均為電阻絲加熱器,并且所述電阻絲加熱器分別獨立地纏繞在所述第一管段和第二管段上。
5.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述第二管段上具有第二預熱組件,所述第二預熱組件為沿水平反向延伸的U型管。
6.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述第一管段上具有第一預熱組件,所述第二管段上具有第二預熱組件,所述第一預熱組件為電阻絲加熱器,所述電阻絲加熱器纏繞在所述第一管段上,所述第二管段為沿水平反向延伸的U型管。
7.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述加熱裝置為電阻絲加熱器。
8.根據權利要求1所述的用于等離子體增強化學氣相沉積的設備,其特征在于,所述玻璃基板通過卡槽設置在所述子沉積腔室內。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





