[實用新型]光學元件面型檢測調整座

有效

• 申請號: 201520553383.5
• 申請日: 2015-07-28
• 公開（公告）號: CN205027335U
• 公開（公告）日: 2016-02-10
• 發明（設計）人: 周佺佺
• 申請（專利權）人: 成都光明光電股份有限公司
• 主分類號: G01B21/20
• 分類號: G01B21/20
• 代理公司: 成都希盛知識產權代理有限公司 51226
• 代理人: 蒲敏

技術領域

本實用新型涉及一種調整座，特別是涉及一種用于光學元件面型檢測的調整座。

背景技術

隨著科技的發展和光學元件的廣泛應用，尖端產品對光學元件質量要求越來越高，對光學元件面形檢測提出了更嚴格的要求。目前通常采用干涉法對光學元件的面形進行高精度檢測，干涉測量具有很高的靈敏度和準確度，是一種高精度的測量方法。采用干涉法進行測試時，需要將光學元件放置在調整座上，通過調節調整座對光學元件的空間位置進行調節，使得光學元件的被測波面與標準波面發生干涉。

目前的調整座一般采用三足支撐的平臺，通過調節三足的高低位置，使得臺面前后左右傾斜。該調整座由于三個支撐足的排布位置，調整時手會遮擋被測元件，干擾反射光點的準確定位；另外，面型檢測時的波面調節需要小幅度位移，采取三足調節，調整幅度大，調整方向無法準確把握。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種可以準確調整定位的光學元件面型檢測調整座。

本實用新型解決技術問題所采用的技術方案是：光學元件面型檢測調整座，包括樣品放置臺面，還包括調整平臺，所述樣品放置臺面設置在所述調整平臺上，所述調整平臺采用三個調整足支撐。

所述調整平臺為左右兩個，所述樣品放置臺面設置在所述左右兩個調整平臺上。

所述樣品放置臺面通過支撐柱設置在所述左右兩個調整平臺上。

所述支撐柱采用鑄鐵制成。

所述樣品放置臺面、調整平臺和調整足采用鑄鐵制成。

本實用新型的有益效果是：面形檢測過程中，調節反射波面時不會遮擋被測元件，干擾反射光點的準確定位；調整幅度均勻可控，調整方向可以準確把握，反射波面與標準波面可以準確對應產生干涉，操作難度小，可準確方便地進行調節，從而提高了光學元件面形檢測的準確性。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖2是圖1的俯視圖。

具體實施方式

如圖1和圖2所示，本實用新型的光學元件面形檢測調整座由樣品放置臺面1和左右兩個調整平臺2組成，樣品放置臺面1通過支撐柱3設置在左右兩個調整平臺2上，左右兩個調整平臺2分別采用三個調整足4支撐。

樣品放置臺面1、調整平臺2、調整足4和支撐柱3最好采用鑄鐵制成，穩固性好，剛性好，可以克服采用木質材料存在的讓性，確保調整位置的穩定準確。

工作時，將需要進行面型檢測的光學元件樣品放置在樣品放置臺面1上，通過調節左右兩個調整平臺2上的三個調整足4，帶動樣品放置臺面1前后左右俯仰運動，從而實現反射波面的調整。

現有的調整座的調整足直接安裝在試樣放置臺面上，調整時，調節調整足的手直接就位于樣品的測試光路上，不可避免的會遮擋光路，使得調整時的調整效果無法及時觀察，容易造成調整的盲目性，增加調節難度；而本實用新型的光學元件面型檢測調整座的調整足與樣品分別位于不同臺面，調節時，手不會遮擋樣品光路，不會干擾反射光點的準確定位。

另外，現有的調整座由于調整足圍繞樣品采取三角形排布，調節時，調整某一調節足，臺面在很大的一個幅角范圍內發生位置改變，涉及高低位移和俯仰角改變，使得樣品光點不能單純地上下左右移動，移動軌跡是復雜的不定向。即使很小地旋動調整足，但由于反射放大，呈現的光點移動位移會很大，無法準確定位。而對于本實用新型的光學元件面型檢測調整座，調節調整足時，帶動的是調整平臺的移動，再通過兩個調整平臺間的相互移動，調整樣品位置，移動幅度均勻可控。