[實用新型]一種真空滅弧室

有效

• 申請號: 201520543285.3
• 申請日: 2015-07-24
• 公開（公告）號: CN204966380U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: 孔國威;魏杰;張純軍
• 申請（專利權）人: 北京雙杰電氣股份有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 趙囡囡;吳貴明

技術領域

本實用新型涉及電氣設備應用領域，具體而言，涉及一種真空滅弧室。

背景技術

目前，在10～35kV中壓電氣設備領域中，真空滅弧室已被廣泛應用于電容器組等無功補償裝置的投切操作當中，并且操作頻繁，每年操作次數可達300～700次。

現有的真空滅弧室主要包括兩類：

一類是容性投切專用真空滅弧室，其特點是滅弧室采用單斷口來進行投切，觸頭材料耐燒蝕，觸頭能夠承受關合過程中4250Hz、20kA高頻涌流帶來的熔焊破壞。觸頭斷開后能夠耐受疊加有直流分量的系統恢復電壓作用，此種情況下的投切重擊穿概率低，通常可達到C2級標準。但該類真空滅弧室不具有短路故障情況下的開斷功能，且容性開斷電流也很小，額定背靠背電容器組開斷電流一般不大于400A。

另一類是兼顧短路故障開斷的容性投切用真空滅弧室，其特點是滅弧室也通過單斷口來進行投切，但其采用開斷性能優良的觸頭材料，系統發生短路故障時具有短路電流斷開功能。相比前一類真空滅弧室，其容性開斷電流較高。但其缺點是由于短路故障開斷和容性投切操作共用一個斷口，導致滅弧室的觸頭表面極易被破壞，增大了觸頭表面場致發射系數β，使得在隨后進行正常容性電流開斷時較容易發生重擊穿，產生過電壓，這對電容器補償裝置和電力系統的安全運行造成很大的威脅，同時進行正常容性投切次數也很有限。

真空滅弧室的使用壽命與其功能有關，事實上在進行電容器組投切操作時，真空滅弧室正常工作電流即為容性負載電流，容性負載開斷操作幾乎占整個開關壽命(合分次數)，而短路故障開斷電流發生的機率非常小。

隨著電力系統無功補償問題日漸突出，真空滅弧室用于電容器組的投切操作更加頻繁，同時對真空滅弧室短路電流開斷能力的要求也不斷提高。根據功能考核及操作壽命分析，目前傳統的電容器組投切用單斷口真空滅弧室無法較好地兼顧容性投切和短路故障開斷穩定可靠，因此需要提高真空滅弧室的技術水平來滿足相應要求。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于提供一種真空滅弧室，以解決現有技術中單斷口的真空滅弧室無法穩定可靠地兼顧容性投切和短路故障開斷的問題。

為了實現上述目的，根據本實用新型的實施例，提供了一種真空滅弧室，包括：外殼；靜端部，靜端部包括靜端連接盤、第一靜觸頭和第二靜觸頭，靜端連接盤與外殼連接以形成相互獨立的第一滅弧腔室和第二滅弧腔室，第一靜觸頭與第二靜觸頭分別位于靜端連接盤的兩側，第一靜觸頭位于第一滅弧腔室內，第二靜觸頭位于第二滅弧腔室內，且第一靜觸頭與第二靜觸頭電連接，其中，第一靜觸頭采用C_uW材料，第二靜觸頭采用C_uC_r材料；第一動端部，第一動端部包括第一動觸頭，第一動觸頭位于第一滅弧腔室內，第一動觸頭具有與第一靜觸頭閉合時的合閘位置以及與第一靜觸頭分離時的分閘位置，其中，第一動觸頭采用C_uW材料；第二動端部，第二動端部包括第二動觸頭，第二動觸頭位于第二滅弧腔室內，第二動觸頭具有與第二靜觸頭閉合時的合閘位置以及與第二靜觸頭分離時的分閘位置，其中，第二動觸頭采用C_uC_r材料。

進一步地，外殼包括上端蓋、殼體本體和下端蓋，上端蓋蓋設在殼體本體的一端，上端蓋、殼體本體及靜端連接盤之間形成第一滅弧腔室，下端蓋蓋設在殼體本體的另一端，下端蓋、殼體本體及靜端連接盤之間形成第二滅弧腔室。

進一步地，真空滅弧室還包括：第一屏蔽罩，第一屏蔽罩位于第一滅弧腔室內，第一屏蔽罩的第一端連接在上端蓋的內側，當第一動觸頭處于分閘位置時，第一動觸頭位于第一屏蔽罩內；第二屏蔽罩，第二屏蔽罩位于第一滅弧腔室內，第二屏蔽罩的第一端連接在靜端連接盤上，第二屏蔽罩圍繞第一靜觸頭，第二屏蔽罩的第二端與第一屏蔽罩的第二端相對設置，且第二屏蔽罩的第二端與第一屏蔽罩的第二端之間具有間隙以形成固定斷口。

進一步地，真空滅弧室還包括第三屏蔽罩，第三屏蔽罩的端部連接在上端蓋的內側，且第三屏蔽罩延伸至殼體本體與第一屏蔽罩之間。

進一步地，真空滅弧室還包括第四屏蔽罩，第四屏蔽罩位于第二滅弧腔室內，第四屏蔽罩焊接在殼體本體的內側，第二靜觸頭與第二動觸頭均位于第四屏蔽罩內。

進一步地，真空滅弧室還包括第五屏蔽罩，第五屏蔽罩的第一端連接在下端蓋的內側，第五屏蔽罩的第二端延伸至殼體本體與第二動端部之間。