[實用新型]一種真空滅弧室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520543285.3
• 申請日: 2015-07-24
• 公開（公告）號: CN204966380U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發(fā)明（設計）人: 孔國威;魏杰;張純軍
• 申請（專利權）人: 北京雙杰電氣股份有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 趙囡囡;吳貴明

1.一種真空滅弧室，其特征在于，包括：

外殼；

靜端部(20)，所述靜端部(20)包括靜端連接盤(21)、第一靜觸頭(22)和第二靜觸頭(23)，所述靜端連接盤(21)與所述外殼連接以形成相互獨立的第一滅弧腔室和第二滅弧腔室，所述第一靜觸頭(22)與所述第二靜觸頭(23)分別位于所述靜端連接盤(21)的兩側，所述第一靜觸頭(22)位于所述第一滅弧腔室內，所述第二靜觸頭(23)位于所述第二滅弧腔室內，且所述第一靜觸頭(22)與所述第二靜觸頭(23)電連接，其中，所述第一靜觸頭(22)采用C_uW材料，所述第二靜觸頭(23)采用C_uC_r材料；

第一動端部(30)，所述第一動端部(30)包括第一動觸頭(31)，所述第一動觸頭(31)位于所述第一滅弧腔室內，所述第一動觸頭(31)具有與所述第一靜觸頭(22)閉合時的合閘位置以及與所述第一靜觸頭(22)分離時的分閘位置，其中，所述第一動觸頭采用C_uW材料；

第二動端部(40)，所述第二動端部(40)包括第二動觸頭(41)，所述第二動觸頭(41)位于所述第二滅弧腔室內，所述第二動觸頭(41)具有與所述第二靜觸頭(23)閉合時的合閘位置以及與所述第二靜觸頭(23)分離時的分閘位置，其中，所述第二動觸頭(41)采用C_uC_r材料。

2.根據權利要求1所述的真空滅弧室，其特征在于，所述外殼包括上端蓋(11)、殼體本體(12)和下端蓋(13)，所述上端蓋(11)蓋設在所述殼體本體(12)的一端，所述上端蓋(11)、所述殼體本體(12)及所述靜端連接盤(21)之間形成所述第一滅弧腔室，所述下端蓋(13)蓋設在所述殼體本體(12)的另一端，所述下端蓋(13)、所述殼體本體(12)及所述靜端連接盤(21)之間形成所述第二滅弧腔室。

3.根據權利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于，所述真空滅弧室還包括：

第一屏蔽罩(51)，所述第一屏蔽罩(51)位于所述第一滅弧腔室內，所述第一屏蔽罩(51)的第一端連接在所述上端蓋(11)的內側，當所述第一動觸頭(31)處于所述分閘位置時，所述第一動觸頭(31)位于所述第一屏蔽罩(51)內；

第二屏蔽罩(52)，所述第二屏蔽罩(52)位于所述第一滅弧腔室內，所述第二屏蔽罩(52)的第一端連接在所述靜端連接盤(21)上，所述第二屏蔽罩(52)圍繞所述第一靜觸頭(22)，所述第二屏蔽罩(52)的第二端與所述第一屏蔽罩(51)的第二端相對設置，且所述第二屏蔽罩(52)的第二端與所述第一屏蔽罩(51)的第二端之間具有間隙以形成固定斷口。

4.根據權利要求3所述的真空滅弧室，其特征在于，所述真空滅弧室還包括第三屏蔽罩(53)，所述第三屏蔽罩(53)的端部連接在所述上端蓋(11)的內側，且所述第三屏蔽罩(53)延伸至所述殼體本體(12)與所述第一屏蔽罩(51)之間。

5.根據權利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于，所述真空滅弧室還包括第四屏蔽罩(54)，所述第四屏蔽罩(54)位于所述第二滅弧腔室內，所述第四屏蔽罩(54)焊接在所述殼體本體(12)的內側，所述第二靜觸頭(23)與所述第二動觸頭(41)均位于所述第四屏蔽罩(54)內。

6.根據權利要求5所述的真空滅弧室，其特征在于，所述真空滅弧室還包括第五屏蔽罩(55)，所述第五屏蔽罩(55)的第一端連接在所述下端蓋(13)的內側，所述第五屏蔽罩(55)的第二端延伸至所述殼體本體(12)與所述第二動端部(40)之間。

7.根據權利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于，

所述第一動端部(30)還包括第一動導電桿(32)，所述第一動導電桿(32)的第一端穿過所述上端蓋(11)，所述第一動觸頭(31)連接在所述第一動導電桿(32)的第二端；

所述第二動端部(40)還包括第二動導電桿(42)，所述第二動導電桿(42)的第一端穿過所述下端蓋(13)，且所述第二動導電桿(42)的第一端的延伸方向與所述第一動導電桿(32)的第一端的延伸方向相互遠離，所述第二動觸頭(41)連接在所述第二動導電桿(42)的第二端。