[實用新型]復合卷繞ITO柔性基材單鼓立式連續磁控濺射真空設備有效
| 申請號： | 201520531413.2 | 申請日： | 2015-07-21 |
| 公開（公告）號： | CN204918748U | 公開（公告）日： | 2015-12-30 |
| 發明（設計）人： | 莊志杰;周鈞;劉戰合 | 申請（專利權）人： | 賽柏利安工業技術（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/08 |
| 代理公司： | 江蘇銀創律師事務所 32242 | 代理人： | 王紀營 |
| 地址： | 215024 江蘇省蘇州市蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 復合 卷繞 ito 柔性 基材 立式 連續 磁控濺射 真空設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種復合卷繞ITO柔性基材單鼓立式連續磁控濺射真空設備，其特征在于：所述的卷繞柔性薄膜真空沉積系統包括兩個分隔開的相互獨立的低真空腔體和高真空腔體，所述低真空腔體與高真空腔體之間設置有高低真空隔板；
所述低真空度腔體設置有可沿著水平軌道開合的第一移動門；所述高真空度腔體裝設有第二移動門；所述第二移動門通過鉸鏈與高真空度腔體鉸接連接；
所述高真空腔體內圍繞著立式單鼓周圍均布了多對立式中頻平面的非平衡陰極，每對非平衡陰極均設置有自隔氣的整體式的封閉屏蔽罩和各自獨立的工藝氣體供氣系統。
2.根據權利要求1所述的復合卷繞ITO柔性基材單鼓立式連續磁控濺射真空設備，其特征在于:所述高真空腔體內設置有非平衡非平衡陰極及隔氣系統；所述高真空腔體和低真空腔體內均設置有各自獨立的相互分開的真空抽氣系統。
3.根據權利要求1所述的復合卷繞ITO柔性基材單鼓立式連續磁控濺射真空設備，其特征在于：所述低真空腔體內設置有可視實時監控系統。
4.根據權利要求1至3任一項所述的復合卷繞ITO柔性基材單鼓立式連續磁控濺射真空設備，其特征在于：所述非平衡陰極為七對。
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