[實用新型]一種硅片清洗搖動裝置

有效

• 申請號: 201520529968.3
• 申請日: 2015-07-21
• 公開（公告）號: CN204912170U
• 公開（公告）日: 2015-12-30
• 發明（設計）人: 郭光燦;范強;魏海霞;王勇
• 申請（專利權）人: 麥斯克電子材料有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;B08B3/08
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120
• 代理人: 羅民健

技術領域

本實用新型涉及單晶硅片清洗過程中用到的輔助清洗裝置，具體為一種硅片清洗搖動裝置。

背景技術

單晶硅片在拋光前后均需要對硅片進行清洗，拋光前的清洗可以使硅片表面更加干凈，蠟層附著更均勻，拋出的硅片有更好的表面質量；拋光后的清洗，可以除去拋光后粘附在硅片表面的有機物和無機物，使拋光硅片更好的滿足工藝的要求。

現有的硅片清洗過程通常是在硅片清洗機上進行，清洗時將裝有硅片的片盒放置在清洗機的化學液清洗槽內，通過循環泵對清洗槽內的清洗液進行循環流動，并輔以兆聲/超聲作用來對硅片進行清洗。此種清洗方式，硅片在清洗過程中靜止不動，僅依靠循環泵產生化學液流動來清洗，清洗效率過低，加之由于硅片之間的間隙很小，兆聲/超聲的作用有限，只能把硅片表面的異物疏松，并不能將其更好地剝落到化學液里。硅片表面或者硅片靠近片盒的邊緣也容易殘留化學液及其它顆粒等異物，造成清洗時間過長，返洗率高，影響生產效率和產品質量。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種硅片清洗搖動裝置，以使硅片在清洗過程中能夠上下運動，并在硅片表面產生流動的清洗水流，從而提高硅片的清洗效率和清洗能力。

為實現上述目的，本實用新型的技術方案是：一種硅片清洗搖動裝置，包括一個氣缸、升降架和硅片承載架，升降架由水平設置的連接軸和豎直設置在連接軸兩端的立桿組成，連接軸與氣缸活塞桿的伸縮端連接，以使升降架在氣缸驅動下做往復升降運動，與兩個立桿相對應的位置分別設有一個導向柱，立桿通過其側部設置的滑塊滑動設置在導向柱的導槽內，硅片承載架包括一個底板，底板上設有多個凸起塊，多個凸起塊與底板之間形成用于放置硅片清洗籃的卡槽，底板上分布有多個透水孔，底板的兩側各設有兩個連接桿，同一側的兩個連接桿的頂端由一個耳板連接，兩個耳板分別與升降架的兩個立桿的頂端連接，以使硅片承載架在升降架帶動下能夠在硅片清洗機的清洗槽內上下運動。

有益效果：本實用新型通過氣缸驅動升降架運動，進而通過硅片承載架帶動裝載有硅片的清洗籃在清洗槽內做往復升降運動，從而通過硅片表面產生的流動清洗水流對硅片進行清洗，有效提高了硅片的清洗能力和清洗效率，返洗率低、產品質量好。本實用新型的運動由氣缸驅動控制，容易調節硅片承載架的運動幅度和頻率，便于與現有的硅片清洗機組合使用。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為硅片承載架的主視圖。

圖3為硅片承載架的俯視圖。

圖中標記：1、電磁閥，2、壓空管道，3、氣缸，4、連接軸，5、導向柱，6、立桿，7、硅片承載架，71、底板，72、連接桿，73、耳板，74、透水孔，75、凸起塊，8、硅片清洗籃。

具體實施方式

如圖所示，一種硅片清洗搖動裝置，包括一個氣缸3、升降架和硅片承載架7，升降架由水平設置的連接軸4和豎直設置在連接軸4兩端的立桿6組成，連接軸4與氣缸活塞桿的伸縮端連接，以使升降架在氣缸3驅動下做往復升降運動，與兩個立桿6相對應的位置分別設有一個導向柱5，立桿6通過其側部設置的滑塊滑動設置在導向柱5的導槽內，導向柱5的設置使升降架的升降運動更加平穩，硅片承載架7包括一個底板71，底板71上設有多個凸起塊75，多個凸起塊75與底板71之間形成用于放置硅片清洗籃8的卡槽，底板71上分布有多個透水孔74，底板71的兩側各設有兩個連接桿72，同一側的兩個連接桿72的頂端由一個耳板73連接，兩個耳板73分別與升降架的兩個立桿6的頂端連接，以使硅片承載架7在升降架帶動下能夠在硅片清洗機的清洗槽內上下運動，待清洗的硅片放置在硅片清洗籃8內，隨硅片承載架7在清洗槽內上下往復運動，從而通過硅片與清洗液水流之間的相互摩擦運動將硅片表面疏松的顆粒物等異物沖洗掉，清洗效果明顯了得到提高。硅片承載架7的底板71為耐腐蝕且不產生顆粒的石英材料，連接桿72為四氟塑料等材料，耳板73為表面涂有防腐的四氟涂層。氣缸驅動氣體-壓縮空氣經兩位四通電磁閥1、壓空管道2送至氣缸3內，驅動氣缸活塞桿做往復運動。

進一步地，所述硅片承載架7的底板71上方設有多層硅片載板，硅片載板與底板71兩側設置的連接桿72連接，硅片載板的結構可設計為與底板71結構相同。硅片載板的設置可增加裝置的清洗量。硅片承載架7的底板71上還可以設置轉動裝置用于使硅片清洗籃8在升降過程中同時在水平面內旋轉，使硅片清洗無死角。

本實用新型還可以通過設置兩個氣缸來直接同步驅動硅片承載架7做往復升降運動，即硅片承載架7兩側的兩個耳板73分別與兩個氣缸的活塞桿連接，兩個氣缸同步運動共同驅動硅片承載架7上下運動。