[實用新型]一種濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置

有效

• 申請號: 201520507868.0
• 申請日: 2015-07-14
• 公開（公告）號: CN204731123U
• 公開（公告）日: 2015-10-28
• 發明（設計）人: 曾永健;徐芙蓉
• 申請（專利權）人: 曾永健;徐芙蓉
• 主分類號: G01N9/26
• 分類號: G01N9/26
• 代理公司: 浙江翔隆專利事務所(普通合伙) 33206
• 代理人: 張建青

1.一種濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，包括阻流板（1）和至少一個套管，其特征在于，所述阻流板（1）的兩端均連接在濕法脫硫塔（4）漿液池（5）下部的內壁上，阻流板（1）上開有多個均流孔（8）；

所述套管的下部安裝在由阻流板（1）和漿液池（5）內壁組成的半封閉空間內。

2.根據權利要求1所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的套管向上傾斜并與漿液池（5）內壁成30-60°的夾角。

3.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的阻流板（1）呈弧形，其通過固定支撐（7）固定在漿液池（5）的內壁上。

4.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的阻流板（1）下沿與漿液池（5）底板的垂直距離L在500-600mm之間，所述的阻流板（1）高度B在1000-1300mm之間，所述的阻流板（1）最遠點與漿液池（5）內壁的距離A在300-500mm之間。

5.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的套管有兩個，分別為上套管（2）和下套管（3），所述的上套管（2）與下套管（3）之間的垂直距離h在500-800mm之間，所述的下套管（3）與漿液池（5）底板的垂直距離M在750-850mm之間，所述的上套管（2）與漿液池（5）上液面之間的距離N不小于2000mm。

6.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的半封閉空間位于攪拌器（6）上方，與攪拌器（6）的垂直距離不小于300mm，并且與攪拌器（6）不在同一垂直面上。

7.根據權利要求6所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的攪拌器（6）安裝在漿液池（5）的側壁上。

8.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的阻流板，其在垂直方向有多排均流孔，各均流孔（8）在垂直方向的間距m為200-250mm；其在弧形方向有多排均流孔，各均流孔（8）的孔直徑為20-30mm。

9.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述套管下部的管壁上設有多個呈圓周均布的進液孔（9）。

10.根據權利要求1或2所述的濕法脫硫塔內差壓式密度測量抗干擾裝置，其特征在于，所述的濕法脫硫塔（4）上裝有隔膜式差壓變送器測量探頭，套管設置在隔膜式差壓變送器測量探頭的下方。