[實用新型]一種導磁性材料磁控濺射平面靶的拼靶機構

有效

• 申請號: 201520488630.8
• 申請日: 2015-07-09
• 公開（公告）號: CN204849011U
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: 劉敏;金云華;李撫龍;趙麗敏
• 申請（專利權）人: 愛藍天高新技術材料（大連）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種導磁性材料磁控濺射平面靶的拼靶機構，靶體（1）內通過螺栓（2）固定著導磁體（3），導磁體（3）上設有磁體組件（6）,其特征在于，在靶體（1）下端通過螺釘（12）固定著背板（4），背板（4）與靶體（1）之間設有O型密封圈（5），背板（4）下端固定著至少三塊中部靶材（7），在背板（4）與中部靶材（7）之間設有石墨墊（8），靠外側的兩個中部靶材（7）分別連接著端部靶材（9），所述的端部靶材（9）的邊沿上設有壓條（11），所述的壓條（11）通過內六角螺栓（10）固定在背板（4）和靶體（1）上。

2.根據權利要求1所述的一種導磁性材料磁控濺射平面靶的拼靶機構，其特征在于，所述的中部靶材（7）的橫截面Ⅰ（13）為梯形，且梯形斜邊的角度為72°至80°。

3.根據權利要求1所述的一種導磁性材料磁控濺射平面靶的拼靶機構，其特征在于，所述的端部靶材（9）的橫截面Ⅱ（14）為梯形，且梯形斜邊的角度為72°至80°。