[實(shí)用新型]一種自動(dòng)去邊機(jī)用硅片暫存裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520461292.9 | 申請(qǐng)日: | 2015-06-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204760360U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-11-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 靳立輝;賈弘源;王國(guó)瑞;姚長(zhǎng)娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津中環(huán)半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/673 | 分類號(hào): | H01L21/673;H01L21/68 |
| 代理公司: | 天津?yàn)I海科緯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211 | 代理人: | 陳雅潔 |
| 地址: | 300384 天津市濱海新區(qū)高新區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 自動(dòng) 去邊機(jī)用 硅片 暫存 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,尤其是涉及一種自動(dòng)去邊機(jī)用硅片暫存裝置。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,硅片的去邊大多是由搬運(yùn)機(jī)械手從上料機(jī)構(gòu)直接搬運(yùn)至藥液槽,少數(shù)在上料機(jī)構(gòu)與藥液槽之間設(shè)有硅片暫存臺(tái),但現(xiàn)有暫存臺(tái)存在一些不足之處:硅片放置時(shí)易跑偏,不能保證硅片位置的精確性;暫存臺(tái)自身不具備校正調(diào)整的功能;暫存臺(tái)剛度不足,機(jī)械手在下伸抓取硅片的過(guò)程中暫存臺(tái)易發(fā)生變形。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型旨在提出一種剛性好、精度高的自動(dòng)去邊機(jī)用硅片暫存裝置。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種自動(dòng)去邊機(jī)用硅片暫存裝置,包括支撐座,在所述支撐座上部依次設(shè)有微調(diào)滑臺(tái)、角度調(diào)整板、連接板和吸附平臺(tái),所述支撐座、微調(diào)滑臺(tái)、角度調(diào)整板、連接板和吸附平臺(tái)之間均通過(guò)螺栓連接;所述吸附平臺(tái)上設(shè)有定位開(kāi)口,所述吸附平臺(tái)上端面開(kāi)有凹槽,所述吸附平臺(tái)的外側(cè)壁上開(kāi)有與所述凹槽連通的氣道;所述角度調(diào)整板邊緣開(kāi)有兩個(gè)對(duì)稱的弧形長(zhǎng)孔。
進(jìn)一步的,所述凹槽為一內(nèi)一外兩個(gè)同圓心的弧形槽,所述兩個(gè)弧形槽之間設(shè)有連通槽
進(jìn)一步的,所述吸附平臺(tái)為圓柱形。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型所述的自動(dòng)去邊機(jī)用硅片暫存裝置具有以下優(yōu)勢(shì):
(1)設(shè)計(jì)有微調(diào)滑臺(tái),定位校準(zhǔn)時(shí)能夠?qū)ξ恢眠M(jìn)行微調(diào),保證了精度,校準(zhǔn)后可鎖死;
(2)設(shè)計(jì)有角度調(diào)整板,可微調(diào)硅片與吸盤的吸附角度;
(3)支撐座剛性好,避免了吸盤下伸取片過(guò)程中的變形。
附圖說(shuō)明
構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分的附圖用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型的爆炸結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型吸附平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本實(shí)用新型吸附平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本實(shí)用新型角度調(diào)整版的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明:
1-支撐座,2-微調(diào)滑臺(tái),21-微調(diào)旋鈕,3-角度調(diào)整板,31-弧形長(zhǎng)孔,4-連接板,5-吸附平臺(tái),51-弧形槽,52-定位開(kāi)口,53-連通槽,54-氣道。
具體實(shí)施方式
需要說(shuō)明的是,在不沖突的情況下,本實(shí)用新型中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型。
如圖1、2所示,自動(dòng)去邊機(jī)用硅片暫存裝置包括支撐座1,在所述支撐座1上部依次設(shè)有微調(diào)滑臺(tái)2、角度調(diào)整板3、連接板4和吸附平臺(tái)5,所述支撐座1、微調(diào)滑臺(tái)2、角度調(diào)整板3、連接板4和吸附平臺(tái)5之間均通過(guò)螺栓連接。
如圖3、4所示為吸附平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖,所述吸附平臺(tái)5為圓柱形,所述吸附平臺(tái)5上設(shè)有定位開(kāi)口52,所述吸附平臺(tái)上端面開(kāi)有凹槽,所述凹槽為一內(nèi)一外兩個(gè)同圓心的弧形槽51,所述兩個(gè)弧形槽之間設(shè)有連通槽53,所述吸附平臺(tái)的外側(cè)壁上開(kāi)有與所述凹槽連通的氣道54,硅片放置后,通過(guò)氣道抽真空,從而起到真空吸附作用。
如圖5所示為角度調(diào)整板的結(jié)構(gòu)示意圖,所述角度調(diào)整板邊緣開(kāi)有兩個(gè)對(duì)稱的弧形長(zhǎng)孔31,用于調(diào)整吸附平臺(tái)定位開(kāi)口52的朝向角度。本實(shí)用新型的功能是,在硅片尋參完成后,機(jī)械手將硅片放于硅片暫存裝置上,吸附平臺(tái)5通過(guò)氣道54抽真空,從而起到真空吸附的作用,將硅片吸附牢固。在工作過(guò)程中若出現(xiàn)硅片與暫存裝置之間出現(xiàn)位置誤差時(shí),可通過(guò)兩種方式手動(dòng)調(diào)試校正裝置,第一種手動(dòng)調(diào)試方式:將連接微調(diào)滑臺(tái)2的螺栓擰松,轉(zhuǎn)動(dòng)微調(diào)旋鈕21來(lái)精確調(diào)整前后位置,校準(zhǔn)后可鎖死,微調(diào)滑臺(tái)2為一種位置調(diào)整裝置,即為現(xiàn)有,故在此不做過(guò)多描述;第二種手動(dòng)調(diào)試方式:將連接吸附平臺(tái)的螺栓擰松,借助其他裝置伸過(guò)弧形長(zhǎng)孔之后來(lái)?yè)軇?dòng)吸附平臺(tái)上的定位開(kāi)口,用于調(diào)整定位開(kāi)口的朝向角度,調(diào)整好后擰緊螺栓。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





