[實用新型]一種具有防水照度計的浸潤式光刻機(jī)

有效

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• 申請日: 2015-06-29
• 公開（公告）號: CN204807909U
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張浩;常歡
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海天辰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;陳慧弘

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于半導(dǎo)體集成電路工藝技術(shù)領(lǐng)域，更具體的，涉及一種具有防水照度計的浸潤式光刻機(jī)。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體技術(shù)中，光刻的本質(zhì)是把臨時電路結(jié)構(gòu)復(fù)制到以后要進(jìn)行刻蝕和離子注入的硅片上。光刻使用光敏光刻膠材料和可控制的曝光，在硅片表面形成三維圖形。

光刻中一個重要的性能指標(biāo)是每個圖形的分辨率。為了提高分辨率，更先進(jìn)的浸潤式光刻得以發(fā)展。在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，光刻機(jī)投影鏡頭與硅片上的光刻膠之間的介質(zhì)是空氣。

浸潤式光刻是指在光刻機(jī)投影鏡頭與硅片之間用一種液體充滿，從而獲得更好的分辨率及增大鏡頭的數(shù)值孔徑，進(jìn)而實現(xiàn)更小曝光尺寸的一種新型光刻技術(shù)。浸潤式光刻技術(shù)利用了光通過液體介質(zhì)后光源波長縮短的原理來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。目前，主流的液體介質(zhì)是超純水(Ultrapurewater，UPW)，使用超純水作為浸潤介質(zhì)的浸潤式光刻，可將投影光源的波長縮短約1.4倍(水的折射率約為1.4)，分辨率比傳統(tǒng)的光刻技術(shù)得到明顯提高。

請參閱圖1，圖1為傳統(tǒng)光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖，光刻機(jī)從上往下依次包括光源、掩膜板以及投射物鏡，投射物鏡的下方設(shè)有待光刻的硅片。在光刻工藝中，需要采用照度計對投射到硅片表面的光量進(jìn)行測量，隨著浸潤式光刻的普及，由于光刻機(jī)投影鏡頭與硅片之間充滿了液體，傳統(tǒng)的照度計無法對浸潤式光刻機(jī)上的硅片進(jìn)行測量。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需研發(fā)一種具有防水照度計的浸潤式光刻機(jī)，以避免傳統(tǒng)照度計受到浸潤介質(zhì)的干擾。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺陷，提供了一種具有防水照度計的浸潤式光刻機(jī)，以避免傳統(tǒng)照度計受到浸潤介質(zhì)的干擾。

為解決上述問題，本實用新型提供一種具有防水照度計的浸潤式光刻機(jī)，用于對硅片進(jìn)曝光，其包括從上往下依次設(shè)置的光源、掩膜板以及投射物鏡，所述投射物鏡的下方設(shè)有待曝光的硅片，還包括：

照度計，用于采集硅片表面投射的光量，放置在所述硅片的表面，所述照度計的表面涂覆有防水涂層；

處理單元，與所述照度計連接，用于接收所述照度計采集的光量值，并對其進(jìn)行分析處理；

浸潤部件，用于提供浸潤介質(zhì)，設(shè)于所述投射物鏡下方的圓周方向上，所述浸潤部件包括液體供應(yīng)管道以及液體回收管道，所述液體供應(yīng)管道以及液體回收管道分別設(shè)于所述投射物鏡的兩側(cè)，其中，浸潤介質(zhì)從液體供應(yīng)管道流出，并從液體回收管道回收，形成浸潤介質(zhì)的循環(huán)供給。

優(yōu)選的，所述照度計包括依次連接的光量傳感器、A/D轉(zhuǎn)換模塊、微控制模塊以及通信模塊，所述光量傳感器將采集的光量數(shù)據(jù)經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換模塊轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號后傳輸至微控制模塊，微控制模塊讀取數(shù)據(jù)后傳輸至通信模塊，由所述通信模塊將光量數(shù)據(jù)通過無線網(wǎng)絡(luò)傳輸至所述處理單元。

優(yōu)選的，所述防水涂層的厚度為10μm～100μm。

優(yōu)選的，所述照度計具有顯示單元，所述顯示單元用于顯示硅片表面測量的光量值。

優(yōu)選的，所述處理單元設(shè)在所述照度計內(nèi)部。

優(yōu)選的，所述照度計通過無線網(wǎng)絡(luò)與計算機(jī)連接，所述計算機(jī)內(nèi)部設(shè)有處理單元。

優(yōu)選的，所述硅片被夾持在工件臺上。

從上述技術(shù)方案可以看出，本實用新型提供的具有防水照度計的浸潤式光刻機(jī)，通過在照度計的表面設(shè)置防水涂層，使照度計可接觸浸潤介質(zhì)，避免了傳統(tǒng)照度計受到浸潤液的干擾，從而提高了照度計檢測光量的準(zhǔn)確性。

附圖說明

結(jié)合附圖，并通過參考下面的詳細(xì)描述，將會更容易地對本實用新型有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點和特征，其中：

圖1是傳統(tǒng)光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實用新型優(yōu)選實施例的浸潤式光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。

[圖中附圖標(biāo)記]：

10、光源；20、掩膜板；30、投射物鏡；40、硅片；50、液體供應(yīng)管道；60、液體回收管道；70、照度計；80、浸潤介質(zhì)。

具體實施方式

為使本實用新型的內(nèi)容更加清楚易懂，以下結(jié)合說明書附圖，對本實用新型的內(nèi)容作進(jìn)一步說明。當(dāng)然本實用新型并不局限于該具體實施例，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員所熟知的一般替換也涵蓋在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。其次，本實用新型利用示意圖進(jìn)行了詳細(xì)的表述，在詳述本實用新型實例時，為了便于說明，示意圖不依照一般比例局部放大，不應(yīng)以此作為對本實用新型的限定。