[實用新型]一種具有防水照度計的浸潤式光刻機

有效

• 申請號: 201520453913.9
• 申請日: 2015-06-29
• 公開（公告）號: CN204807909U
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發明（設計）人: 張浩;常歡
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;陳慧弘

1.一種具有防水照度計的浸潤式光刻機，用于對硅片進曝光，其包括從上往下依次設置的光源、掩膜板以及投射物鏡，所述投射物鏡的下方設有待曝光的硅片，其特征在于，還包括：

照度計，用于采集硅片表面投射的光量，放置在所述硅片的表面，所述照度計的表面涂覆有防水涂層；

處理單元，與所述照度計連接，用于接收所述照度計采集的光量值，并對其進行分析處理；

浸潤部件，用于提供浸潤介質，設于所述投射物鏡下方的圓周方向上，所述浸潤部件包括液體供應管道以及液體回收管道，所述液體供應管道以及液體回收管道分別設于所述投射物鏡的兩側，其中，浸潤介質從液體供應管道流出，并從液體回收管道回收，形成浸潤介質的循環供給。

2.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述照度計包括依次連接的光量傳感器、A/D轉換模塊、微控制模塊以及通信模塊，所述光量傳感器將采集的光量數據經過A/D轉換模塊轉換為數字信號后傳輸至微控制模塊，微控制模塊讀取數據后傳輸至通信模塊，由所述通信模塊將光量數據通過無線網絡傳輸至所述處理單元。

3.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述防水涂層的厚度為10μm～100μm。

4.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述硅片的表面涂覆有防水涂層。

5.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述照度計具有顯示單元，所述顯示單元用于顯示硅片表面測量的光量值。

6.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述處理單元設在所述照度計內部。

7.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述照度計通過無線網絡與計算機連接，所述計算機內部設有處理單元。

8.根據權利要求1所述的具有防水照度計的浸潤式光刻機，其特征在于，所述硅片被夾持在工件臺上。