[實(shí)用新型]一種提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520430905.2 | 申請日: | 2015-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN204714945U | 公開(公告)日: | 2015-10-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳文杰;甘大源;唐珊珊;楊濤;劉賽賽;王振剛 | 申請(專利權(quán))人: | 山東大海新能源發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | C30B28/06 | 分類號: | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 濟(jì)南千慧專利事務(wù)所(普通合伙企業(yè)) 37232 | 代理人: | 左建華 |
| 地址: | 257300 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提高 多晶 轉(zhuǎn)換 效率 石英 坩堝 | ||
(一)技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種坩堝,特別涉及一種提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝。
(二)背景技術(shù)
太陽能電池作為一種清潔能源越來越受到關(guān)注,其光電轉(zhuǎn)換效率很大程度上取決于多晶硅的質(zhì)量,而多晶硅的質(zhì)量又取決于硅錠定向凝固過程中的各種工藝及設(shè)備條件。目前,在光伏太陽能行業(yè)中,多晶硅錠的生產(chǎn)過程多采用定向凝固工藝。生產(chǎn)時,將裝有原生硅料的石英坩堝放在定向凝固塊上,通過石墨加熱器產(chǎn)生的1500℃高溫,將裝在石英坩堝內(nèi)的原生硅料熔化。在原生硅料的熔融過程中,石英坩堝是必不可少的容器。檢測結(jié)果表明,石英坩堝的金屬雜質(zhì)總量比太陽能級晶體硅高4-5個數(shù)量級,進(jìn)一步的,這些金屬雜質(zhì)中對晶體硅性能危害較大的過渡族金屬Fe的含量比太陽能級晶體硅高2-3個數(shù)量級。在鑄錠過程中,石英坩堝中Fe等金屬雜質(zhì)受熱熔融后會通過固相擴(kuò)散導(dǎo)致硅錠的底部和側(cè)面等區(qū)域形成低少子壽命區(qū)域,即所謂的“紅區(qū)”,使用這種硅錠邊緣紅區(qū)比例較高部位的硅片制作的太陽能電池片,在EL(電致發(fā)光)檢查時會檢測到發(fā)光強(qiáng)度較低的“黑邊”,即石英坩堝攜帶的金屬雜質(zhì)。這些“黑邊”部位的光電轉(zhuǎn)換效率較低,使電池的效率降低。因此金屬雜質(zhì)會使硅錠的質(zhì)量降低,對硅料的污染不可忽略。此原因造成的硅錠邊皮和底部去除量一般高達(dá)20-30%,導(dǎo)致硅錠的利用率不高。而且,行業(yè)內(nèi)使用的傳統(tǒng)普通坩堝的外徑為1040mm,為了開方后得到36塊156mm*156mm標(biāo)準(zhǔn)尺寸的硅塊,硅錠的單邊切除量只能為25mm左右,檢測結(jié)果表明,由于邊皮切除較少,開方后邊角硅塊的紅區(qū)比例較大。因此,坩堝尺寸制約著邊角硅塊純度的提高。其次,坩堝上沒有限位結(jié)構(gòu),當(dāng)使用前疊加堆放時,無法做到整齊劃一,并且堆疊后穩(wěn)定性較差,容易發(fā)生傾倒,造成坩堝的損壞。
(三)發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種坩堝內(nèi)表面經(jīng)過表面處理、防止坩堝內(nèi)金屬雜質(zhì)擴(kuò)散、通過增大坩堝尺寸增大硅錠尺寸、增加硅錠的邊皮切除量、提高硅錠利用率和電池轉(zhuǎn)換效率的提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝,解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。
本實(shí)用新型是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝,包括坩堝本體,所述坩堝本體為包括底面和四個側(cè)壁的立體結(jié)構(gòu),所述底面為正方形且外側(cè)壁與底面相互垂直,在坩堝本體底面和四個側(cè)壁的內(nèi)表面從內(nèi)向外依次噴涂有石英砂涂層和氮化硅涂層,在坩堝本體的底面外側(cè)設(shè)有一限位凸塊,在坩堝本體的側(cè)壁頂部設(shè)有與限位凸塊相配合的限位凹槽,所述坩堝本體的外徑為1060mm,內(nèi)側(cè)壁之間通過半徑為14mm的圓弧角過渡,內(nèi)側(cè)壁與內(nèi)底面之間通過半徑為17mm的圓弧角過渡,所述坩堝本體側(cè)壁的底部厚度比頂部厚度大3mm。
本實(shí)用新型的有益效果是:該提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝,設(shè)計(jì)合理,坩堝表面的石英砂涂層和氮化硅涂層可以抑制坩堝內(nèi)部的金屬雜質(zhì)向硅料擴(kuò)散,進(jìn)而提高靠近坩堝部位的硅錠的少子壽命,提高硅錠利用率和電池轉(zhuǎn)換效率。坩堝本體的外徑為1060mm,比行業(yè)內(nèi)通用的普通坩堝外徑增大了20mm,這使硅錠的體積進(jìn)一步變大。硅錠的體積變大,開方時硅錠的單邊邊皮切除量隨之增加,得到的硅塊上少子壽命低的紅區(qū)寬度也就隨之減小,所以整體上提高了硅塊的少子壽命,使硅塊利用率和電池轉(zhuǎn)換效率進(jìn)一步提高。與現(xiàn)有技術(shù)相比,使用該提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝鑄錠得到的邊角硅塊,低少子壽命及缺陷的紅區(qū)寬度明顯減小,邊角硅塊平均少子壽命提高1.2μs,邊角硅塊少子壽命和中間硅塊持平,硅片效率的提高比為1.5%。再次,該提高多晶硅錠轉(zhuǎn)換效率的石英坩堝,在其底部設(shè)有限位凸塊,頂部設(shè)有與其相配合的限位凹槽,這樣在使用前堆疊時通過限位凸塊和限位凹槽的配合,可以做到整齊劃一,提高了堆放時的穩(wěn)定性,避免了傾倒現(xiàn)象的發(fā)生。
(四)附圖說明
下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。
圖1為本實(shí)用新型的剖視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中,1底面,2側(cè)壁,3石英砂涂層,4氮化硅涂層,5限位凸塊,6限位凹槽。
(五)具體實(shí)施方式
為能清楚說明本方案的技術(shù)特點(diǎn),下面通過具體實(shí)施方式,并結(jié)合其附圖,對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)闡述。
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