[實(shí)用新型]全自動真空熱蒸發(fā)裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520394941.8 | 申請日: | 2015-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN204918741U | 公開(公告)日: | 2015-12-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳巧珍 | 申請(專利權(quán))人: | 陳巧珍 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 350211 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 全自動 真空 蒸發(fā) 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種制備有機(jī)薄膜和電極的全自動真空熱蒸發(fā)裝置,屬于固態(tài)薄膜制備領(lǐng)域。
背景技術(shù)
基于量子點(diǎn)的LED器件的制備需要多種工藝,包括使用勻膠機(jī)甩膜制備聚合物薄膜和量子點(diǎn)薄膜、使用真空熱蒸發(fā)制備有機(jī)薄膜和電極等。器件的表征和測試也會用到多種方法,比如用kethley測量基于量子點(diǎn)LED的電流特性、用熒光光譜儀測量器件的吸收譜和發(fā)射譜以及電致發(fā)光譜、用臺階儀標(biāo)定各膜層的厚度等等。其中,ITO玻璃的刻蝕過程以及注意事項,經(jīng)過這些步驟處理的玻璃基片已經(jīng)比較清潔,但是對于器件制備的需求來講,還是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的。在每次器件制備之前,都需要對器件進(jìn)行一次系統(tǒng)的清洗。如果不能夠執(zhí)行嚴(yán)格的操作步驟,導(dǎo)致生產(chǎn)出的器件性能影響非常顯著。目前很多操作需要人工來完成,操作的精確度和產(chǎn)品的次品率較高,不能夠?qū)崿F(xiàn)充分的量產(chǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,解決好現(xiàn)有技術(shù)的問題,彌補(bǔ)現(xiàn)有目前市場上現(xiàn)有產(chǎn)品的不足。
本實(shí)用新型提供了一種全自動真空熱蒸發(fā)裝置,主要包括真空蒸鍍室、分子泵、機(jī)械泵、計算機(jī)和氮?dú)夤蓿稣婵照翦兪曳謩e通過管道與分子泵和機(jī)械泵連接,分子泵通過管道和機(jī)械泵連接,所述氮?dú)夤薹謩e連接真空蒸鍍室和計算機(jī),計算機(jī)還連接有主控器。
優(yōu)選的,上述真空蒸鍍室和分子泵之間的連接管道中間設(shè)置有閘板閥,分子泵和機(jī)械泵之間的連接管道中間設(shè)置有擋板閥,真空蒸鍍室和機(jī)械泵之間的連接管道中間設(shè)置有旁抽閥。
優(yōu)選的,上述機(jī)械泵和真空蒸鍍室以及分子泵的兩部分連接管道互相交匯。
優(yōu)選的,在管道的交匯點(diǎn)和機(jī)械泵之間設(shè)置有熱偶,真空蒸鍍室的一端設(shè)置有電離。
優(yōu)選的,上述擋板閥設(shè)置在管道的交匯點(diǎn)和分子泵之間。
優(yōu)選的,上述主控器分別與分子泵和機(jī)械泵連接。
本實(shí)用新型提供的全自動真空熱蒸發(fā)裝置通過巧妙的設(shè)計,提供了一種非常高效安全的操作系統(tǒng),能夠極大地提高生產(chǎn)器件的工作效率,并且大大降低產(chǎn)品的次品率,操作簡單方便。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記:1-真空蒸鍍室;2-分子泵;3-機(jī)械泵;4-閘板閥;5-擋板閥;6-旁抽閥;7-電離;8-熱偶;9-計算機(jī);10-氮?dú)夤蓿?1-主控器。
具體實(shí)施方式
為了便于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解和實(shí)施本實(shí)用新型,下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
如圖1所示,本實(shí)用新型提供的全自動真空熱蒸發(fā)裝置,主要包括真空蒸鍍室1、分子泵2、機(jī)械泵3、計算機(jī)9和氮?dú)夤?0,真空蒸鍍室1分別通過管道與分子泵2和機(jī)械泵3連接,分子泵2通過管道和機(jī)械泵3連接,氮?dú)夤?0分別連接真空蒸鍍室1和計算機(jī)9,計算機(jī)9還連接有主控器11。
真空蒸鍍室1和分子泵2之間的連接管道中間設(shè)置有閘板閥4,分子泵2和機(jī)械泵3之間的連接管道中間設(shè)置有擋板閥5,真空蒸鍍室1和機(jī)械泵3之間的連接管道中間設(shè)置有旁抽閥6。機(jī)械泵3和真空蒸鍍室1以及分子泵2的兩部分連接管道互相交匯。在管道的交匯點(diǎn)和機(jī)械泵3之間設(shè)置有熱偶8,真空蒸鍍室1的一端設(shè)置有電離7。擋板閥5設(shè)置在管道的交匯點(diǎn)和分子泵2之間。主控器11分別與分子泵2和機(jī)械泵3連接。
分子泵2必須在前后兩端都低于10Pa才能啟動,否則容易損壞。熟悉真空操作的原理,對于熟練掌握操作流程,避免操作失誤非常重要。
本實(shí)用新型的操作方法是:
1、打開總控電源,打開機(jī)械泵3。
2、旋開真空蒸鍍室前門旋鈕,這樣做的目的是防止室內(nèi)壓力下降后無法打開真空蒸鍍室1門。
3、打開氮?dú)夤?0的通氣閥,按下放氣閥,向真空蒸鍍室1中沖入氮?dú)狻U婵照翦兪覂?nèi)部氣壓逐漸升高,等待前門彈開后,關(guān)閉放氣閥,并且關(guān)閉氮?dú)夤?0的通氣閥。
4、打開真空蒸鍍室前門,將玻璃基板放置在樣品架上,將鍍膜材料(有機(jī)物或者金屬材料)放在蒸發(fā)源內(nèi)。
5、關(guān)閉真空蒸鍍室1門,用手緊緊壓平蒸鍍室的前門,踩下腳踏式的旁抽閥,對真空蒸鍍室1進(jìn)行初步抽真空,大氣壓將真空蒸鍍室1緊緊關(guān)閉壓緊。
6、初步對真空蒸鍍室1抽真空之后,打開總控電源面板上的旁抽閥6(該旁抽閥6與腳踏式的旁抽閥6為同一個閥門)。注意:此時必須保證擋板閥5和閘板閥4處于關(guān)閉狀態(tài)。這一步是預(yù)抽真空階段,將真空蒸鍍室1的氣壓抽到比較低的真空度。
7、打開熱偶壓力計,熱偶壓力計指示此時真空蒸鍍室1的內(nèi)壓力,當(dāng)真空蒸鍍室1內(nèi)壓力低于10Pa后,關(guān)閉旁抽閥6。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
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C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
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C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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