[實用新型]透明導電性薄膜

有效

• 申請號: 201520382370.6
• 申請日: 2015-06-04
• 公開（公告）號: CN204706006U
• 公開（公告）日: 2015-10-14
• 發明（設計）人: 藤野望;加藤大貴;梨木智剛
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B5/14
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

技術領域

本實用新型涉及適用于能夠通過手指、觸控筆(stylus?pen)等的接觸來輸入信息的輸入顯示裝置等的透明導電性薄膜。

背景技術

迄今為止，已知在聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜與銦-錫氧化物層之間具有無機硅化合物層(例如SiO₂層)的透明導電性薄膜(專利文獻1)。這種透明導電性薄膜具有以下特征：由于無機硅氧化物層可以抑制作為使銦-錫氧化物層的特性降低的主要原因的、來自聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的水分等揮發成分的產生，因此電阻率小。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-184478號公報

實用新型內容

實用新型要解決的問題

近年來，隨著搭載于輸入顯示裝置等的觸摸面板的大型化，需要進一步減小透明導電性薄膜的電阻率。然而，上述現有的透明導電性薄膜的電阻率為5.0×10^-4Ω·cm左右，用作大型觸摸面板的透明電極時稱不上為充分的值。加之，在大型觸摸面板用的透明導電性薄膜中，也需要具備作為原本特性的良好的透明性，并且，在制造工序中，薄膜基材有時會變得容易彎曲、處理變得煩雜，因此需要實現良好的處理性。

本實用新型的目的是提供透明性和處理性良好、且電阻率更小的透明導電性薄膜。

用于解決問題的方案

為了實現上述目的，本實用新型的透明導電性薄膜的特征在于，至少依次具有聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、固化層、無機硅氧化物層及銦-錫氧化物層，前述聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的厚度為40μm～130μm，前述固化層在該固化層內具備多個無機顆粒，前述固化層的厚度與前述無機硅氧化物層的厚度的總和為300nm以上并且不足3000nm，前述無機硅氧化物層的厚度超過15nm，前述銦-錫氧化物層的厚度為15nm以上并且50nm以下，且其表面的中心線平均粗糙度Ra為0.1nm以上并且不足2nm。

優選的是，前述聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的厚度為70μm～130μm。

另外優選的是，前述固化層中的多個無機顆粒的體積占有率為15％～70％。

另外優選的是，通過BET法計算出的前述多個無機顆粒的平均粒徑為5nm～50nm。

另外優選的是，前述固化層的厚度與前述無機硅氧化物層的厚度的總和為400nm以上并且800nm以下。

另外優選的是，前述無機硅氧化物層的厚度為20nm～40nm。

進一步優選的是，前述銦-錫氧化物層為多晶層，其厚度為超過20nm并且40nm以下，且其表面的中心線平均粗糙度Ra為0.1nm以上并且不足1nm。

另外優選的是，前述銦-錫氧化物層在其厚度方向上具有氧化錫的濃度梯度，前述厚度方向上的氧化錫濃度的最小值為1重量％～4重量％。

另外，提供電阻率為3.7×10^-4Ω·cm以下、且總透光率為90％以上的透明導電性薄膜。

需要說明的是，對于本實用新型的透明導電性薄膜，也可以在前述聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一側的主面上形成前述固化層，在前述聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的另一側的主面上形成其他固化層。

另外，也可以在前述聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜與前述固化層之間形成易粘接層。

實用新型的效果

根據本實用新型，由于作為基材的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜具有40μm～130μm范圍的厚度值，因此可以賦予透明導電性薄膜適度的剛性，在制造工序中的處理性變得良好。另外，通過在聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜與銦-錫氧化物層之間設有具有無機顆粒的固化層和無機硅氧化物層，且固化層與無機硅氧化物層厚度的總和具有300nm以上并且不足3000nm的范圍的值，進而將無機硅氧化物層的厚度設定至超過15nm，由于可以充分地抑制制造工序中的來自聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的水分的產生，因此可以邊實現良好的透明性，邊使電阻率變小。進而，由于銦-錫氧化物層的厚度為15nm以上并且50nm以下，且其表面的中心線平均粗糙度Ra為0.1nm以上并且不足2nm，因此可以實現高透光率、并且通過具有表面平滑的銦-錫氧化物層而實現更小的電阻率。

附圖說明

圖1是示意性地示出本實用新型的實施方式的透明導電性薄膜的結構的截面圖。

附圖標記說明

1?透明導電性薄膜

2?聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜

3?固化層

3a?基層

3b?無機顆粒

4?無機硅氧化物層