[實(shí)用新型]單片集成在高折射率襯底的亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520372295.5 | 申請(qǐng)日: | 2015-06-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204679671U | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王瑞;李淘;邵秀梅;曹高奇;李雪;龔海梅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 單片 集成 折射率 襯底 波長(zhǎng) 金屬 光柵 偏振 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本專利屬于偏振光學(xué)元件,具體涉及一種單片集成在高折射率襯底的亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片。
背景技術(shù)
光柵作為一種常用的光學(xué)元件,其功能主要包括:偏振、色散、分束和相位匹配。亞波長(zhǎng)金屬光柵結(jié)構(gòu)因其具有結(jié)構(gòu)緊湊、易集成、偏振特性好、光譜較寬、透射率和消光比高等特點(diǎn),可以減少光路原件,增加光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的靈活性,具有改進(jìn)和取代傳統(tǒng)光學(xué)元器件的潛力。隨著微電子加工工藝的快速發(fā)展和光柵理論的不斷深入,人們漸漸發(fā)現(xiàn)當(dāng)光柵周期小于入射光波長(zhǎng)時(shí),表現(xiàn)出強(qiáng)烈的偏振特性。一維亞波長(zhǎng)金屬光柵具有顯著的偏振特性即所謂的雙折射效應(yīng):對(duì)于電場(chǎng)矢量方向垂直于柵條的TM波,光柵可近似等效為電介質(zhì),具有高透射;對(duì)于電場(chǎng)方向平行于柵條的TE波,相當(dāng)于金屬膜,具有高反射。電場(chǎng)的偏振方向會(huì)影響到光的衍射,使得金屬光柵在透射或反射光譜方面表現(xiàn)出不同于一般衍射光學(xué)元件的性質(zhì),因此在亞波長(zhǎng)光學(xué)方面具有較大的應(yīng)用潛力。亞波長(zhǎng)金屬光柵已被應(yīng)用于光邏輯功能器件,傳感器,濾波片,光探測(cè)器,偏振分束器等領(lǐng)域。
中國(guó)臺(tái)灣清華大學(xué)制作出小于15nm寬,高寬比大于16的納米線光柵,方法采用納米壓印以及等離子修剪,最后得到消光比12000:1,透過(guò)率85%的偏振片,見(jiàn)Nanotechnology,24(2013)265301:1-7。上海光學(xué)精密機(jī)械研究所吳軍等對(duì)近紅外波段1-3nm理論設(shè)計(jì)了寬波段金屬線柵偏振分束器,TM波的透過(guò)率和TE波的反射率都大于95%,消光比為25dB,見(jiàn)Optics&LaserTechnology,?47(2013):166–170。路易斯華盛頓大學(xué)Timothy?York等人針對(duì)可見(jiàn)波段在CCD相機(jī)單片集成Al納米線光柵,周期為140nm,占空比0.5,一個(gè)重復(fù)單元里包括4個(gè)方向光柵偏振方向,其中像素1000×1000,像距7μm,幀頻40,消光比30(460nm),47(515nm),58(625nm),視場(chǎng)角±10°,信噪比40dB,見(jiàn)APPLIED?OPTICS,2012,Vol.51,No.22:5392-5400。
但是,這些亞波長(zhǎng)金屬光柵都是生長(zhǎng)在低折射率襯底上的,且大部分用于可見(jiàn)波段。與他們相比,本專利主要基于折射率高的襯底,滿足在紅外波段特定襯底性質(zhì)的要求。
發(fā)明內(nèi)容
本專利的目的是提供一種集成在高折射率襯底的亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片。
本專利亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片結(jié)構(gòu)為:從襯底3自下而上依次是低折射率介質(zhì)層2、亞波長(zhǎng)金屬光柵層1。
所述低折射率介質(zhì)層2的折射率在1.3至2.5之間,厚度H是50-1000納米。低折射率介質(zhì)材料選自SiO2、Si3N4和ZnS的一種。
所述亞波長(zhǎng)金屬光柵1的周期p是100-400納米,厚度h是80-200納米,占空比(w/p)是0.4-0.6。金屬材料選自金、鋁、銀和銅的一種。
本專利的有益效果在于:
本專利通過(guò)在高折射率襯底和亞波長(zhǎng)金屬光柵之間插入一層低折射率介質(zhì)層,能有效提高偏振片在紅外波段的TM波透過(guò)率和消光比。具有結(jié)構(gòu)緊湊、易集成、偏振特性好、光譜較寬、透射率和消光比高等特點(diǎn),可以減少光路原件,增加光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的靈活性,具有改進(jìn)和取代傳統(tǒng)光學(xué)元器件的潛力。
附圖說(shuō)明
圖1為本專利的結(jié)構(gòu)示意圖。1是亞波長(zhǎng)金屬光柵層,2是低折射率介質(zhì)層,3是高折射率襯底。
圖2為本專利實(shí)施例一中亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片的TM光透過(guò)率與入射波長(zhǎng)關(guān)系圖。
圖3為本專利實(shí)施例一中亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片的消光比與入射波長(zhǎng)關(guān)系圖。
圖4為本專利實(shí)施例二中亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片的TM光透過(guò)率與入射波長(zhǎng)關(guān)系圖。
圖5為本專利實(shí)施例二中亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片的消光比與入射波長(zhǎng)關(guān)系圖。
圖6為本專利實(shí)施例三中亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片的TM光透過(guò)率與入射波長(zhǎng)關(guān)系圖。
圖7為本專利實(shí)施例三中亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片的消光比與入射波長(zhǎng)關(guān)系圖。
具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖和實(shí)施例,對(duì)本專利應(yīng)用于高折射率襯底是InP的情況進(jìn)行詳細(xì)描述。以下實(shí)施例僅用于說(shuō)明本專利,但不限制本專利的范圍。
如圖1所示,所述亞波長(zhǎng)金屬光柵偏振片結(jié)構(gòu)為:從襯底3自下而上依次是低折射率介質(zhì)層2、亞波長(zhǎng)金屬光柵層1。圖中亞波長(zhǎng)金屬光柵周期p,柵條寬度w,占空比定義為w/p,低折射率介質(zhì)層2的厚度是H,亞波長(zhǎng)金屬光柵層1的厚度是h。
實(shí)施例一:
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