[實用新型]一種基于壓力控制的拋光機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520371153.7
• 申請日: 2015-06-02
• 公開（公告）號: CN204686629U
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 翁強;劉清建;尤濤;王太勇
• 申請（專利權(quán)）人: 福建省天大精諾信息有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35219
• 代理人: 林祥翔;呂元輝

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及古典家具生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是涉及一種基于壓力控制的拋光機。

背景技術(shù)

眾所周知，在古典家具生產(chǎn)過程中都需要進行雕花工藝，而現(xiàn)有技術(shù)中最常用的就是采用自動雕花設(shè)備進行雕花，在雕花過程中會產(chǎn)生飛邊和毛刺等，因此需要進行打磨與拋光處理。在打磨與拋光處理時，打磨頭或拋光頭與工件表面的接觸力度極為重要，若接觸力度偏小，則無法將飛邊、毛刺磨掉，若接觸力度偏大，則將導(dǎo)致過度磨削，破壞工件表面圖案。因此，現(xiàn)有打磨拋光設(shè)備無法對較復(fù)雜的雕花進行打磨與拋光處理，而只能由人工手動進行打磨與拋光，人工手動打磨拋光的勞動強度大、工作效率低，從而大大影響古典家具的生產(chǎn)效率。

實用新型內(nèi)容

本實用新型要解決的技術(shù)問題，提供一種基于壓力控制的拋光機，用于提高拋光效率。

本實用新型是這樣實現(xiàn)的：第一方面，提供一種基于壓力控制的拋光機，包括：機床基座、工作臺和進行拋光處理的拋光模組，所述工作臺可移動地設(shè)置于機床基座上，拋光模組設(shè)置于工作臺上方；

所述拋光模組包括多組拋光頭組，所述拋光頭組設(shè)置于以定長上下運動的托架上；其中，每個拋光頭組包括氣缸、壓力傳感器和設(shè)置于氣缸推桿末端的磨頭，所述壓力傳感器設(shè)置于氣缸缸套內(nèi)，用于檢測氣缸內(nèi)部壓力，每個拋光頭組的壓力傳感器和氣缸均連接于用于控制氣缸壓力恒定的氣壓平衡裝置。

其中，所述氣壓平衡裝置包括控制器、以及分別與控制器連接的第一單向高頻閥和第二單向高頻閥；

所述第一單向高頻閥設(shè)置于氣缸進氣口，用于控制氣缸進氣；

所述第二單向高頻閥設(shè)置于氣缸排氣口，用于控制氣缸排氣；

所述控制器通過控制每個氣缸的第一單向高頻閥和第二單向高頻閥調(diào)節(jié)每個氣缸內(nèi)恒定壓力。

其中，所述壓力傳感器為應(yīng)變片壓力傳感器。

結(jié)合第一方面，在第二種可能的實施方式中，所述基于壓力控制的拋光機還包括打磨模組，所述機床基座上設(shè)置有橫跨所述工作臺的龍門架，打磨模組與拋光模組設(shè)置于龍門架的兩側(cè)。

其中，所述打磨模組包括多組打磨頭，所述打磨頭包括軸承和設(shè)置于軸承上的整體式砂布或片狀式砂布輪；

所述多組打磨頭設(shè)置于兩相對設(shè)置地回轉(zhuǎn)盤之間，回轉(zhuǎn)盤連接于轉(zhuǎn)位驅(qū)動電機，打磨頭的軸承上設(shè)置有從動摩擦輪，所述打磨頭驅(qū)動裝置設(shè)置有連接于驅(qū)動電機的主動摩擦輪，所述主動摩擦輪由推動裝置控制壓緊或離開所述從動摩擦輪。

其中，所述轉(zhuǎn)位驅(qū)動電機為步進電機。

本實用新型具有如下優(yōu)點：區(qū)別于現(xiàn)有的拋光機無法精確的控制拋光頭與工件之間的接觸壓力，因此無法用于復(fù)雜雕花工件拋光，本實用新型基于壓力控制的拋光機將拋光頭設(shè)置于氣缸的推桿上，并在氣缸內(nèi)部設(shè)置壓力傳感器，所述氣壓平衡裝置根據(jù)壓力傳感器檢測的壓力值控制氣缸內(nèi)壓力恒定，從而精確控制拋光頭與工件之間的接觸壓力，實現(xiàn)復(fù)雜雕花工件機械拋光，大大提高了古典家具拋光效率。

附圖說明

圖1為本實用新型提供的實施方式基于壓力控制的拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為拋光頭組的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為打磨模組的結(jié)構(gòu)示意圖。

標號說明：

1、機床基座；2、工作臺；3、滑動裝置；4、托架；5、運動裝置；6、拋光模組；111、龍門架；11、推動裝置；12、主動摩擦輪；13、主動摩擦輪驅(qū)動電機；14、從動摩擦輪；15、轉(zhuǎn)位驅(qū)動電機；16、打磨頭；17、軸承座；18、制動器；19、機架；20、回轉(zhuǎn)盤；61、磨頭；62、氣缸缸套；63、活塞；64、壓力傳感器；65、壓縮氣源；66、控制器；67、第一單向高頻閥；68、第二單向高頻閥。

具體實施方式

為詳細說明本實用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實施方式并配合附圖詳予說明。

請參閱圖1以及圖2，一種基于壓力控制的拋光機，包括：機床基座1、工作臺2和進行拋光處理的拋光模組6，所述機床基座1與工作臺2之間設(shè)置有運動裝置5，用于控制工作臺2在機床基座1上沿X、Y、Z三軸運動，所述拋光模組6設(shè)置于工作臺2上方。

所述拋光模組6包括多組拋光頭組，所述拋光頭組設(shè)置于以定長上下運動的托架4上，托架4設(shè)置于滑動裝置3上，所述滑動裝置3設(shè)置于龍門架111的滑槽上，所述龍門架111設(shè)置于機床基座1上；