[實用新型]一種基于壓力控制的拋光機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520371153.7
• 申請日: 2015-06-02
• 公開（公告）號: CN204686629U
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 翁強;劉清建;尤濤;王太勇
• 申請（專利權(quán)）人: 福建省天大精諾信息有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務所(普通合伙) 35219
• 代理人: 林祥翔;呂元輝

1.一種基于壓力控制的拋光機，其特征在于，包括：

機床基座、工作臺和進行拋光處理的拋光模組，所述工作臺可移動地設(shè)置于機床基座上，拋光模組設(shè)置于工作臺上方；

所述拋光模組包括多組拋光頭組，所述拋光頭組設(shè)置于以定長上下運動的托架上；

其中，每個拋光頭組包括氣缸、壓力傳感器和設(shè)置于氣缸推桿末端的磨頭，所述壓力傳感器設(shè)置于氣缸缸套內(nèi)，用于檢測氣缸內(nèi)部壓力，每個拋光頭組的壓力傳感器和氣缸均連接于用于控制氣缸壓力恒定的氣壓平衡裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于壓力控制的拋光機，其特征在于，所述氣壓平衡裝置包括控制器、以及分別與控制器連接的第一單向高頻閥和第二單向高頻閥；

所述第一單向高頻閥設(shè)置于氣缸進氣口，用于控制氣缸進氣；

所述第二單向高頻閥設(shè)置于氣缸排氣口，用于控制氣缸排氣；

所述控制器通過控制每個氣缸的第一單向高頻閥和第二單向高頻閥調(diào)節(jié)每個氣缸內(nèi)恒定壓力。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于壓力控制的拋光機，其特征在于，所述壓力傳感器為應變片壓力傳感器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于壓力控制的拋光機，其特征在于，還包括打磨模組，所述機床基座上設(shè)置有橫跨所述工作臺的龍門架，打磨模組與拋光模組設(shè)置于龍門架的兩側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于壓力控制的拋光機，其特征在于，所述打磨模組包括多組打磨頭，所述打磨頭包括軸承和設(shè)置于軸承上的整體式砂布或片狀式砂布輪；

所述多組打磨頭設(shè)置于兩相對設(shè)置的回轉(zhuǎn)盤之間，回轉(zhuǎn)盤連接于轉(zhuǎn)位驅(qū)動電機，打磨頭的軸承上設(shè)置有從動摩擦輪，打磨頭驅(qū)動裝置設(shè)置有連接于驅(qū)動電機的主動摩擦輪，所述主動摩擦輪由推動裝置控制壓緊或離開所述從動摩擦輪。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于壓力控制的拋光機，其特征在于，所述轉(zhuǎn)位驅(qū)動電機為步進電機。