[實用新型]應(yīng)用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520358823.1 | 申請日： | 2015-05-29 |
| 公開（公告）號： | CN204720414U | 公開（公告）日： | 2015-10-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 戴秀海;余海春;龍汝磊 | 申請（專利權(quán)）人： | 光馳科技（上海）有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/20 | 分類號： | H01J37/20 |
| 代理公司： | 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市寶*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 應(yīng)用于 離子束 刻蝕 系統(tǒng) 承載 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種應(yīng)用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于：所述裝置包括旋轉(zhuǎn)軸和至少兩個載物臺，所述載物臺沿所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向間隔設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述載物臺可隨所述旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，所述載物臺上開設(shè)有離子束窗口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于：所述離子束窗口的輪廓形狀、大小與承載于所述載物臺上的基片的形狀、大小吻合適配。
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