[實用新型]一種硅單晶片研磨用的研磨液回收裝置

有效

• 申請號: 201520357281.6
• 申請日: 2015-05-29
• 公開（公告）號: CN204686671U
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發明（設計）人: 孫智武;陳衛群;李海濤;李建剛;楊波
• 申請（專利權）人: 麥斯克電子材料有限公司
• 主分類號: B24B57/00
• 分類號: B24B57/00
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120
• 代理人: 羅民健

技術領域

本實用新型涉及到半導體行業中硅單晶片的研磨工序，具體的說是一種硅單晶片研磨用的研磨液回收裝置。

背景技術

硅單晶片的研磨工藝主要目的是去除切片加工工序中，硅切片表面因切割產生的表面損傷層，并使硅片具有一定的幾何尺寸精度。目前對于直徑小于200mm的硅片常采用雙面研磨技術對硅片進行雙面研磨加工，加工時利用游星輪（Carrier）將硅片置于雙面研磨機的上下磨盤之間，加入相宜的液體研磨料（slurry），使硅片隨著游星輪做相對的行星運動，并對硅片分段加速、加壓進行雙面研磨加工，在研磨的同時需要加入液體研磨料，液體研磨料（磨液）主要由磨砂（氧化鋁微粉）、純水和懸浮劑組成。現有技術中，配制好的液體研磨料在使用后直接排放，而配制液體研磨料的PWA系列磨粉成本很高(約40元/Kg)，這大大增加了生產成本。

實用新型內容

為解決現有技術中研磨液在研磨完后直接排放導致的生產成本高的問題，本實用新型提供了一種硅單晶片研磨用的研磨液回收裝置，通過該裝置對使用過的研磨液進行回收并再次利用，從而節約了研磨液，降低了生產成本。

本實用新型為解決上述技術問題采用的技術方案為：一種硅單晶片研磨用的研磨液回收裝置，包括研磨液過濾罐、循環供應罐和設置在循環供應罐內的供應泵，供應泵通過帶有控制閥的供液管將循環供應罐內的研磨液輸送給研磨機，研磨機排出的研磨液流入研磨液過濾罐中，且研磨液過濾罐的罐口處設置有過濾研磨液的過濾網，所述循環供應罐內還設置有用于將研磨液過濾罐內經過過濾的研磨液吸入到循環供應罐內并進行攪拌混合的攪拌泵。

所述循環供應罐的上部設置有凹陷，研磨液過濾罐設置在該凹陷內，且其頂部與循環供應罐的頂部平齊，研磨液過濾罐的底部設置有通孔，攪拌泵的吸液口與該通孔連通。

所述供液管上設置帶有閥門的排液管，排液管的一端連接在供應泵與控制閥之間的位置，另一端通入研磨液廢棄池。

有益效果：本實用新型通過將使用過的研磨液過濾后與循環供應罐內的研磨液混合后再次使用，從而實現了研磨液的重復利用，降低研磨液的使用成本約15%左右；同時，最大限度的降低了重復利用的研磨液對研磨效果的影響，實驗證明，采取本裝置生產，可以穩定量產ＴＴＶ值均小于1微米，表面良好，同一盤去除量相差小于2微米的4、5、6英寸硅單晶研磨片，產品合格率高達99％以上。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

附圖標記：1、循環供應罐，2、供應泵，3、供液管，4、研磨液過濾罐，5、過濾網，6、攪拌泵，7、排液管。

具體實施方式

如圖所示，一種硅單晶片研磨用的研磨液回收裝置，包括研磨液過濾罐4、循環供應罐1和設置在循環供應罐1內的供應泵2，初始時，循環供應罐1內裝有新配制的研磨液，且不裝滿，一般在3/4左右，供應泵2通過帶有控制閥的供液管3將循環供應罐1內的研磨液輸送給研磨機，研磨機排出的研磨液流入研磨液過濾罐4中，且研磨液過濾罐4的罐口處設置有過濾研磨液的過濾網5，定期清理過濾網以及研磨液過濾罐4，所述循環供應罐1內還設置有用于將研磨液過濾罐4內經過過濾的研磨液吸入到循環供應罐1內并進行攪拌混合的攪拌泵6，攪拌泵6將吸入的研磨液和循環供應罐1內的研磨液混合均勻。

以上為本實用新型的基本實施方式，可在以上基礎上做進一步的改進或限定：

如，所述循環供應罐1的上部設置有凹陷，研磨液過濾罐4設置在該凹陷內，且其頂部與循環供應罐1的頂部平齊，研磨液過濾罐4的底部設置有通孔，攪拌泵6的吸液口與該通孔連通；

又如，所述供液管3上設置帶有閥門的排液管7，排液管7的一端連接在供應泵2與控制閥之間的位置，另一端通入研磨液廢棄池，在循環使用一段時間后（如6-8h），關閉供液管3上的控制閥，打開排液管7，使循環供應罐1內的研磨液經排液管7排入到研磨液廢棄池內，并在此池內對廢棄的研磨液進行處理；

再如，循環供應罐1上部具有開口，以便于對其中的攪拌泵6和供應泵2進行檢修、維護，同時也便于清洗循環供應罐1。