[實用新型]磁控濺射孿生旋轉(zhuǎn)靶材的氣體供應(yīng)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520348565.9
• 申請日: 2015-05-27
• 公開（公告）號: CN204714888U
• 公開（公告）日: 2015-10-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李爽;沈曉磊;許磊
• 申請（專利權(quán)）人: 光馳科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 31214
• 代理人: 徐小蓉

1.一種磁控濺射孿生旋轉(zhuǎn)靶材的氣體供應(yīng)裝置，包括氣管，所述氣管上開設(shè)有出氣口，其特征在于：所述氣體供應(yīng)裝置至少包括若干所述氣管，所述氣管上的所述出氣口分別對應(yīng)覆蓋所述靶材的部分區(qū)域，若干所述氣管上的所述出氣口所構(gòu)成的覆蓋范圍包含所述靶材的全部區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射孿生旋轉(zhuǎn)靶材的氣體供應(yīng)裝置，其特征在于：若干所述氣管上的所述出氣口錯列布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種磁控濺射孿生旋轉(zhuǎn)靶材的氣體供應(yīng)裝置，其特征在于：若干所述氣管的所述出氣口的覆蓋范圍具有重合交疊的區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射孿生旋轉(zhuǎn)靶材的氣體供應(yīng)裝置，其特征在于：所述出氣口的口徑沿所述氣管的內(nèi)壁至外壁的方向逐漸變大。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射孿生旋轉(zhuǎn)靶材的氣體供應(yīng)裝置，其特征在于：至少兩個所述出氣孔呈中心對稱分布設(shè)置于所述氣管上。