[實用新型]一種高效出光的GaN基LED芯片有效
| 申請號: | 201520321950.4 | 申請日: | 2015-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN204668344U | 公開(公告)日: | 2015-09-23 |
| 發明(設計)人: | 林海鳳;吳飛翔;董發;李鵬飛 | 申請(專利權)人: | 南通同方半導體有限公司;同方股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06;H01L33/32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高效 gan led 芯片 | ||
技術領域
?本實用新型涉及半導體發光領域,特別是具有高效出光的N區結構GaN基LED芯片。
背景技術
GaN材料是第三代半導體材料,禁帶寬度為3.4eV,由于它性質穩定,又是波長位于藍紫光的直接帶隙發光材料,因此是制造藍紫光LED芯片的優質材料。隨著外延生長技術和多量子阱結構的發展,GaN基LED的內量子效率已經有了非常大的提高,目前GaN基的內量子效率可達70%以上,但LED的外量子效率通常只有40%左右。所以進一步提高GaN基LED的外量子提取效率能提高LED出光效率和降低LED的使用成本。
然而影響GaN基的LED外量子效率的主要因素除了由于GaN材料與空氣的折射率差較大導致光提取效率較低之外,金屬電極對于光的吸收也非常嚴重。如圖1所示,從LED多量子阱發光層5側面發出的光被N型電極9的側面吸收掉,從而損失了一部分光效。常規的LED為了減少芯片電極的吸光,設計了反射電極,但N型電極9側面的吸光并未得到有效改善,大大影響了出光效率。
發明內容
針對上述現有技術中存在的不足,本實用新型的目的是提供一種高效出光的GaN基LED芯片。它能有效提高LED的外量子取出效率,提高芯片亮度。
為了達到上述實用新型目的,本實用新型的技術方案以如下方式實現:
一種高效出光的GaN基LED芯片,它包括從下到上依次排列的襯底、GaN緩沖層、不摻雜U-GaN層、N-GaN層、多量子阱發光層、P-GaN層和透明導電層。在芯片一端的透明導電層上設置P型電極,在芯片另一端的N-GaN?層歐姆接觸層上設置N型電極。其結構特點是,所述N-GaN層歐姆接觸層上還置有柱狀平臺。所述柱狀平臺位于多量子阱發光層與N型電極之間,?柱狀平臺從下至上依次為N-GaN層、多量子阱發光層和P-GaN層。
在上述高效出光的GaN基LED芯片中,所述柱狀平臺的寬度為5-10μm。
如上所述高效出光的GaN基LED芯片的制作方法,包括以下制作步驟:
1)利用金屬有機物化學氣相沉積技術,在襯底上表面依次外延生長GaN緩沖層、不摻雜U-GaN層、N-GaN層、多量子阱發光層、P-GaN以及透明導電層(7);
2)利用曝光技術及ICP技術部分刻蝕出N-GaN層歐姆接觸層并形成柱狀平臺,刻蝕深度為12000?,柱狀平臺寬度為5-10μm;
3)利用蒸鍍技術制備透明導電層并利用曝光技術和刻蝕技術制備出P-GaN層歐姆接觸層;
4)利用蒸鍍和曝光技術制備P型電級和N型電極;
5)將制作完成的LED芯片背面減薄;
6)利用蒸發方法在芯片背面制作ODR或DBR反射層;
7)將LED芯片通過激光切割和劈裂機劈裂成小芯粒。
本實用新型由于采用了上述結構,在多量子阱發光層與N型電極之間設置了柱狀平臺,?GaN材料的柱狀平臺對光幾乎不吸收,所以使得從多量子阱發光層側面發出的光沒有被N型電極側面吸收掉,而是被反射回來,有效降低N電極側面對于有源區發出的光的吸收,大大提高了LED的外量子取出效率,從而提高了芯片亮度。
下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步說明。
附圖說明
圖1為現有技術中GaN基LED芯片的結構示意圖;
圖2為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
參看圖2,本實用新型高效出光的GaN基LED芯片包括從下到上依次排列的襯底1、GaN緩沖層2、不摻雜U-GaN層3、N-GaN層4、多量子阱發光層5、P-GaN層6和透明導電層7。在芯片一端的透明導電層7上設置P型電極8,在芯片另一端的N-GaN?層4歐姆接觸層上設置N型電極9。多量子阱發光層5與N型電極9之間的N-GaN層4歐姆接觸層上還置有柱狀平臺10。柱狀平臺10從下至上依次為N-GaN層4、多量子阱發光層5和P-GaN層6。
本實用新型GaN基LED芯片的制作方法實施例一:
1)利用金屬有機物化學氣相沉積技術在襯底1上表面依次外延生長GaN緩沖層2、不摻雜U-GaN層3、N-GaN層4、多量子阱發光層5、P-GaN層6以及透明導電層7;
2)利用曝光技術及ICP技術部分刻蝕出N-GaN歐姆接觸層4,形成柱狀平臺10,刻蝕深度為12000?,柱狀平臺10的寬度為5μm;
3)利用蒸鍍技術制備透明導電層并利用曝光技術和刻蝕技術制備出P-GaN?6歐姆接觸層;
4)利用蒸鍍和曝光技術制備P型電級8和N型電極9;
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