[實用新型]蒸鍍裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520312552.6 | 申請日： | 2015-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN204803393U | 公開（公告）日： | 2015-11-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 郭世聰 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人： | 吳俊 |
| 地址： | 201506 上海市金山區(qū)*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 裝置 | ||
1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，應(yīng)用于制備蒸鍍薄膜于一基板上，所述蒸鍍裝置包括：
蒸鍍源，設(shè)置于所述基板的下方；
蒸鍍噴嘴，設(shè)置于所述蒸鍍源的上方，所述蒸鍍噴嘴面向所述基板；
限制板，臨近所述蒸鍍噴嘴設(shè)置于所述蒸鍍源上；
其中，所述限制板具有傾斜表面，以利用該傾斜表面限定所述蒸鍍噴嘴噴射蒸鍍顆粒的蒸鍍角。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述限制板包括：
限制板本體，具有傾斜的表面；
防粘貼薄膜，覆蓋所述限制板本體的傾斜的表面上；
其中，所述防粘貼薄膜與所述蒸鍍顆粒的粘附性小于所述限制板本體與所述蒸鍍顆粒之間的粘附性。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述限制板的傾斜表面延伸方向與所述蒸鍍面板的蒸鍍面延伸方向之間的夾角小于所述蒸鍍噴嘴的蒸鍍角。
4.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍噴嘴包括主噴嘴及對稱設(shè)置于該主噴嘴兩側(cè)的輔助噴嘴；
所述主噴嘴的開口方向平行于所述蒸鍍面板的蒸鍍面的延伸方向，所述輔助噴嘴的開口方向與所述蒸鍍面板的蒸鍍面的延伸方向交叉；
其中，在臨近所述輔助噴嘴源遠(yuǎn)離所述主噴嘴的一側(cè)設(shè)置有具有所述傾斜表面的限制板，以利用所述傾斜表面限制所述輔助噴嘴的蒸鍍角。
5.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括：
板狀的限制板，設(shè)置于所述主噴嘴的兩側(cè)及輔助噴嘴靠近所述主噴嘴一側(cè)；
其中，所述板狀的限制板利用垂直于所述蒸鍍板的蒸鍍面的表面限定與其臨近的蒸鍍噴嘴的蒸鍍角。
6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述板狀的限制板的表面設(shè)置有所述防粘貼薄膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海和輝光電有限公司，未經(jīng)上海和輝光電有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520312552.6/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種球磨拋光清洗一體機
- 下一篇：一種具有自動除塵功能的干式活性炭打磨臺
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
