[實用新型]閥組件和真空室組件

有效

• 申請號: 201520295458.4
• 申請日: 2015-05-08
• 公開（公告）號: CN204768573U
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發明（設計）人: 約亨·克勞瑟;米夏埃爾·霍夫曼
• 申請（專利權）人: 馮·阿登納有限公司
• 主分類號: B01J3/03
• 分類號: B01J3/03;C23C14/56;F16K15/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 劉明海;楊生平

技術領域

本發明涉及一種閥組件和一種真空室組件。

背景技術

通常，可使用處理設備，來處理例如加工、涂層、加熱、刻蝕和/或結構改變工件或基體，例如板形基體、玻璃板、晶片或其他載體。對基體的處理例如可以在處理設備的室中完成，其中，該室可這樣地設置，即，可在室內提供對于該處理而必須的條件(處理條件)。對此必須的或有益的是，將處理設備的室和/或其他室相互或相對于處理設備的環境密封。

處理設備的不同的室可借助于所謂的室壁或隔壁相互分開，例如對于水平連續涂層設備(串聯-設備)來說借助于豎直室壁或豎直隔壁。在此，每個室壁(或隔壁)可以下述方式具有基體-轉運-開口(基體-轉運-縫隙)，即，基體可被運輸通過室壁，例如從處理設備的第一室進入處理設備的第二室。此外，處理設備可在輸入區域和/或輸出區域上這樣地具有基體-轉運-開口，即，基體可被置入處理設備中，和/或可從處理設備中取出。

為了相互密封處理設備的不同的室，或為了將處理設備的室相對于環境密封，各室的基體-轉運-開口可借助于閥封閉和/或密封。

傳統的閥例如可被設置成止回閥，其中，止回閥的閥蓋設置成運動的或可圍繞旋轉軸線旋轉，從而密封室的基體-轉運-開口。例如，傳統的閥蓋可借助于多個成行地沿著相應的旋轉軸線布置的鉸鏈可旋轉地被支承。由于多個鉸鏈可實現機械穩定性，當然由此對于傳統的閥蓋也必要的是，精確地設置鉸鏈，且在安裝閥蓋時精確地對準鉸鏈，從而實現閥蓋的足夠密封效果。明顯地，對于多個鉸鏈的情況困難的是，將閥蓋精確地對準包圍基體-轉運-開口的密封面(待密封的密封面)。與其相關的對于制造誤差的要求例如可涉及到高的成本。

明顯地，在閥蓋的軸承結構中相對于待密封的密封面的小的偏差(錯位位置)可降低閥蓋的密封效果，或導致在閥蓋與待密封的密封面之間形成不均勻的縫隙。此外，用于避免閥蓋的錯位位置的制造成本變大，基體-轉運-開口越寬，則由此閥蓋越寬，且由此導致額外的成本。

發明內容

在不同的實施方式中，提供具有可旋轉的閥蓋的止回閥，其中，可旋轉的閥蓋制造、安裝簡單，且可真空密封地封閉。對此，閥蓋位于待密封的密封面上的密封部可這樣地被支承在兩個旋轉臂之間，即，閥蓋的密封部可匹配待密封的密封面的形狀。明顯地，兩點軸承結構可借助于旋轉臂實現閥蓋的一定的韌性，且由此可以平衡不均勻的縫隙。

此外，可借助于旋轉臂實現軸承結構點或閥蓋的位置相對于基體-轉運-開口的不復雜的匹配。對此，旋轉臂可相互獨立地可旋轉地和/或可調節地被設置，使得旋轉臂的相對位置和/或相對方位可相互設置。明顯地，在隨后借助于旋轉臂安裝閥蓋時可以平衡錯位位置或偏差，這例如由于更大的制造誤差而可使得制造成本更低。

此外，針對止回閥的制造成本在寬的待密封的基體-轉運-開口的情況下被降低(例如在基體-轉運-開口的寬度在大致1m至大致5m的寬度范圍中的情況下)，因為閥蓋的軸承結構可獨立于基體-轉運-開口的寬度而實現。這使得針對不同寬度的基體-轉運-開口可使用相同或類似的組件，這可降低成本，例如當使用不同的基體-幾何形狀時。

根據不同實施方式已知，用于將閥蓋固定在可旋轉的軸承上的固定結構可承受高的負載，該高的負載可導致材料疲勞和/或導致固定結構失靈。例如，在擠壓閥蓋抵靠室壁的密封面時通過固定結構傳遞的力可超過固定結構的負載能力。這可能由于固定結構的頻繁更替的負載，在處理設備運行期間，在閥蓋的持續周期性打開和閉合的情況下增強。明顯地，出現的力例如可導致使用的螺栓或焊縫破裂，它們用于將閥蓋固定在可旋轉的軸承上。

在不同的實施方式中，閥蓋借助于固定結構這樣地被固定在可旋轉的軸承上，即，出現的力在處理設備運行時直接借助于形配合傳遞到閥蓋上，而不通過固定結構。由此，根據不同實施方式，可降低固定結構的負載。

根據不同實施方式，基體-轉運-開口可縱向延伸，其中，閥蓋可沿著基體-轉運-開口的縱向延伸而縱向延伸。明顯地，基體-轉運-開口可以是裂口狀的，從而在運輸通過基體-轉運-開口的板形基體與室壁之間提供小的縫隙高度。小的縫隙高度可提高鄰接基體-轉運-開口的兩個區域之間的，例如處理設備鄰接基體-轉運-開口的兩個室之間的壓力分隔。

根據不同實施方式，處理設備通常可具有室殼體，可在其中提供處理設備的一個或多個室。室殼體例如可以與真空泵組件耦合，從而提供負壓或真空(真空室殼體)，且這樣地穩定設置，即，在泵出的狀態下承受空氣壓力產生的影響。相應地，可提供真空室或可提供在室殼體中的多個室。