[實用新型]一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置

有效

• 申請號: 201520261691.0
• 申請日: 2015-04-27
• 公開（公告）號: CN204589290U
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: 成林
• 申請（專利權）人: 昆山浦元真空技術工程有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜機技術領域，具體的說是一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置。

背景技術

電弧離子真空鍍膜機現均采用工件轉架連接偏壓電源，對鍍膜工件施加偏壓，讓蒸發的金屬離子以較大的能量轟擊工件的表面，從而提高膜層的附著力。但這種工藝只能適合對金屬或其它耐溫材料鍍膜，并不適合塑料等材料使用電弧離子真空鍍膜工藝。因為工件在電流通過時會產生熱量，如果是塑料類材料就會被燒壞。

基于以上原因，需要一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置被設計出來，通過在蒸發源和鍍膜工件的一側，安裝偏壓輔助裝置；不讓電流通過工件，但也能靠偏壓輔助裝置提高蒸發金屬離子的能量，有效避免了因為工件在電流通過時會產生熱量，如果是塑料類材料就會被燒壞的情況，即一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置。

實用新型內容

為了解決上述現有真空鍍膜機存在的技術問題，本實用新型提供一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置，包括：真空室和工件轉架，所述工件轉架固定安裝在真空室內部，所述工件轉架內部安裝有偏壓輔助裝置，所述工件轉架表面放置有鍍膜工件；所述真空室的邊緣處固定設置有電弧蒸發源，所述真空室的下方分別設置有偏壓電源和電弧蒸發源，所述偏壓電源通過偏壓電源線路分別和真空室、偏壓輔助裝置固定連接；所述電弧蒸發電源通過電弧蒸發源線路分別和真空室、電弧蒸發源固定連接。

作為本實用新型的優選方案，在電弧離子真空鍍膜機的蒸發源和工件轉架的一側，安裝偏壓輔助裝置，讓偏壓電源在偏壓輔助裝置和真空室之間形成電流回路。本裝置也可在電阻蒸發真空鍍膜機和磁控濺射真空鍍膜機上使用。

本實用新型的有益效果是：一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置，通過在蒸發源和鍍膜工件的一側安裝偏壓輔助裝置，增強電弧離子真空鍍膜機的使用功能，讓電弧離子真空鍍膜機也能在塑料或其它不耐溫材料表面鍍制膜層，本實用新型結構較為簡單，實用性較高，適合推廣使用。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖中:1、真空室，2、偏壓電源，3、電弧蒸發電源，4、偏壓電源線路，5、電弧蒸發源線路，6、電弧蒸發源，7、工件轉架，8、偏壓輔助裝置，9、鍍膜工件，10、蒸發金屬離子。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

如圖1所示，本實用新型所述的一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置，包括：真空室1和工件轉架7，所述工件轉架7固定安裝在真空室1內部，所述工件轉架7內部安裝有偏壓輔助裝置8，所述工件轉架7表面放置有鍍膜工件9；所述真空室1的邊緣處固定設置有電弧蒸發源6，所述真空室1的下方分別設置有偏壓電源2和電弧蒸發源3，所述偏壓電源2通過偏壓電源線路4分別和真空室1、偏壓輔助裝置8固定連接；所述電弧蒸發電源3通過電弧蒸發源線路5分別和真空室1、電弧蒸發源6固定連接；所述工件轉架7上每次放置的鍍膜工件9數量為六塊；所述電弧蒸發源6的數量為六個。

作為本實用新型一個較佳的實施例，如圖1所示，本實用新型在工作時，不讓偏壓電流通過工件，靠偏壓輔助裝置來提高蒸發金屬離子的能量，加速向工件表面沉積，最終達到工件鍍膜效果。

作為本實用新型另一個較佳的實施例，通過在電弧離子真空鍍膜機的蒸發源和工件轉架的一側，安裝偏壓輔助裝置，讓偏壓電源在偏壓輔助裝置和真空室之間形成電流回路。本裝置也可在電阻蒸發真空鍍膜機和磁控濺射真空鍍膜機上使用。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。