[實用新型]一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520261691.0
• 申請日: 2015-04-27
• 公開（公告）號: CN204589290U
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 成林
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山浦元真空技術(shù)工程有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種電弧離子真空鍍膜機偏壓輔助裝置，其特征在于：包括真空室(1)和工件轉(zhuǎn)架(7)，所述工件轉(zhuǎn)架(7)固定安裝在真空室(1)內(nèi)部，所述工件轉(zhuǎn)架(7)內(nèi)部安裝有偏壓輔助裝置(8)，所述工件轉(zhuǎn)架(7)表面放置有鍍膜工件(9)；所述真空室(1)的邊緣處固定設(shè)置有電弧蒸發(fā)源(6)，所述真空室(1)的下方分別設(shè)置有偏壓電源(2)和電弧蒸發(fā)源(3)，所述偏壓電源(2)通過偏壓電源線路(4)分別和真空室(1)、偏壓輔助裝置(8)固定連接；所述電弧蒸發(fā)電源(3)通過電弧蒸發(fā)源線路(5)分別和真空室(1)、電弧蒸發(fā)源(6)固定連接。