[實(shí)用新型]晶圓劈裂機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520260942.3 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204809205U | 公開(公告)日: | 2015-11-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 施心星;龔楷峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州鐳明激光科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/78 | 分類號(hào): | H01L21/78;H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 劈裂 | ||
1.晶圓劈裂機(jī),其特征是,它包括取料軸、預(yù)矯正裝置、自動(dòng)上下料軸、料盒、CCD、掃描儀、定位傳感器、旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)、壓板、劈裂臺(tái)軸、定位裝置和機(jī)架,在所述機(jī)架上設(shè)有旋轉(zhuǎn)工作臺(tái),在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)左側(cè)的機(jī)架上設(shè)有用于盛放加工材料的料盒,在所述料盒下方的機(jī)架上設(shè)有自動(dòng)上下料軸,所述料盒在步進(jìn)馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)下沿自動(dòng)上下料軸上下移動(dòng);在所述自動(dòng)上下料軸與旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)之間設(shè)有預(yù)矯正裝置,在所述預(yù)矯正裝置的上方設(shè)有CCD,在所述CCD與預(yù)矯正裝置之間設(shè)有掃描儀,所述掃描儀可以掃描加工材料上的二維碼;在所述機(jī)架的前側(cè)設(shè)有取料軸,在所述取料軸上設(shè)有左右移動(dòng)的取料軸夾爪;在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上設(shè)有若干位于同一圓周上用于夾持固定待加工材料的定位裝置,在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的上方設(shè)有定位傳感器,所述定位傳感器與定位裝置配合作用實(shí)現(xiàn)對(duì)加工材料的定位;在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的上方設(shè)有可在豎直方向上升降的壓板和劈裂刀;在所述機(jī)架的前側(cè)設(shè)有劈裂臺(tái),在所述機(jī)架的底部設(shè)有可在左右方向上移動(dòng)的另一CCD,該CCD用于采集加工材料上的靶標(biāo)信息以反饋給控制系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓劈裂機(jī),其特征是,所述壓板和劈裂刀由氣缸驅(qū)動(dòng)升降。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓劈裂機(jī),其特征是,所述定位裝置由氣缸驅(qū)動(dòng)移動(dòng)且定位裝置的移動(dòng)方向沿旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的徑向。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓劈裂機(jī),其特征是,所述定位裝置為三個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓劈裂機(jī),其特征是,所述劈裂刀由步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州鐳明激光科技有限公司,未經(jīng)蘇州鐳明激光科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520260942.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:卡箍快開式大直徑容器密封裝置
- 下一篇:用于移除排放氣體的設(shè)備
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





