[實用新型]空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520206811.7 | 申請日: | 2015-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN204569420U | 公開(公告)日: | 2015-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄔二莽;鄔榮;鄔曄 | 申請(專利權(quán))人: | 鄔二莽 |
| 主分類號: | C01B13/11 | 分類號: | C01B13/11 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 010300 內(nèi)蒙古自治區(qū)鄂爾多斯*** | 國省代碼: | 內(nèi)蒙古;15 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 空腔 配風(fēng)式 臭氧發(fā)生器 | ||
1.一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,其包括絕緣腔體,所述絕緣腔體的外壁上套有金屬網(wǎng),所述絕緣腔體的兩端設(shè)有插線通孔,所述絕緣腔體內(nèi)貫穿有電極導(dǎo)線,所述電極導(dǎo)線的兩端分別由所述絕緣腔體兩端的插線通孔穿過,所述電極導(dǎo)線的兩端設(shè)有卡頭,所述卡頭卡接在所述插線通孔外側(cè);所述絕緣腔體的上設(shè)有進風(fēng)孔和出風(fēng)孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,所述絕緣腔體為絕緣管、絕緣圓柱形腔體或絕緣棱柱形腔體的任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,所述電極導(dǎo)線平直且與所述絕緣腔體側(cè)壁平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,所述插線通孔設(shè)置于所述絕緣腔體兩端端面的中心。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,所述絕緣管包括管體,所述管體的兩端套有管狀絕緣固定接頭,一個所述管狀絕緣固定接頭側(cè)面設(shè)有至少一個所述進風(fēng)孔,另一個所述管狀絕緣固定接頭側(cè)面設(shè)有至少一個所述出風(fēng)孔,所述插線通孔設(shè)于所述管狀絕緣固定接頭頂部中心位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,其包括臭氧發(fā)生箱,所述臭氧發(fā)生箱內(nèi)部設(shè)有兩塊分壓隔板,兩塊所述分壓隔板的邊緣均與所述臭氧發(fā)生箱的內(nèi)壁連接,將所述臭氧發(fā)生箱分割成壓縮空氣腔體、臭氧發(fā)生腔體和臭氧收集腔體,兩塊所述分壓隔板之間為所述臭氧發(fā)生腔體,所述臭氧發(fā)生腔體內(nèi)設(shè)有若干根所述絕緣管,兩塊所述分壓隔板上對應(yīng)設(shè)有與每根所述絕緣管相配合的安裝孔,每根所述絕緣管的兩端分別對應(yīng)穿過兩塊所述分壓隔板上的所述安裝孔,所述絕緣管設(shè)有所述進風(fēng)孔的一端置于所述壓縮空氣腔體內(nèi),所述絕緣管設(shè)有所述出風(fēng)孔的一端置于所述臭氧收集腔體內(nèi),兩塊所述分壓隔板上均設(shè)有通氣槽,所述臭氧發(fā)生箱的側(cè)壁上設(shè)有強制注風(fēng)口和臭氧出口,所述強制注風(fēng)口與所述壓縮空氣腔體連通,所述臭氧出口與所述臭氧收集腔體連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,若干根所述絕緣管之間相互平行設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,所述臭氧發(fā)生腔體內(nèi)設(shè)有至少一層所述絕緣管,每層所述絕緣管包括至少一根所述絕緣管。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,一塊所述分壓隔板的頂部設(shè)有所述通氣槽,另一塊所述分壓隔板的底部設(shè)有所述通氣槽;或者,一塊所述分壓隔板的左側(cè)設(shè)有所述通氣槽,另一塊所述分壓隔板的右側(cè)設(shè)有所述通氣槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種空腔配風(fēng)式臭氧發(fā)生器,其特征在于,所述臭氧發(fā)生箱為金屬材質(zhì)臭氧發(fā)生箱,所述金屬網(wǎng)與所述臭氧發(fā)生箱通過導(dǎo)線連接并接地。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鄔二莽,未經(jīng)鄔二莽許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520206811.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:硅棒上下棒機
- 下一篇:氯化氫氣體合成爐防止過氯裝置





