[實用新型]一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置有效
| 申請號: | 201520198660.5 | 申請日: | 2015-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN204479906U | 公開(公告)日: | 2015-07-15 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 廣州市仕元光電有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/72 | 分類號: | G03F1/72 |
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| 地址: | 510730 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 玻璃 光罩黑 缺陷 去除 裝置 | ||
技術領域
?本實用新型涉及玻璃光罩技術領域,尤其涉及一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置。
背景技術
玻璃光罩photomask,也稱鉻版,是指在玻璃基板材料上濺射一層金屬涂層然后覆蓋一層表面光阻最后通過曝光顯影蝕刻脫膜相關工序制作各種金屬圖形線路,以便用于感光膠涂層選擇性曝光的一種結構。
由于玻璃光罩在制作過程中受某些因素影響,在透光區域內會產生殘余金屬鉻形成非有效圖形,此類形成阻光的非有效圖形統稱玻璃光罩黑缺陷,包括黑點、毛刺、連線。形成此類缺陷的主要因素系表面光阻上面或者里面含有顆粒類雜志導致此區域表面光阻殘留,最終導致玻璃光罩黑缺陷的產生,影響玻璃光罩的使用。因此,現有技術中,針對玻璃光罩黑缺陷的產生,通常是通過使用表面光阻對玻璃光罩黑缺陷周圍有效金屬圖形進行覆蓋保護,然后通過棉簽蘸蝕刻液涂抹到玻璃光罩黑缺陷表面,通過化學分解的方法去除。
但是,由于表面光阻為液態物質,在手動對玻璃光罩黑缺陷周圍有效圖形進行覆蓋保護時可操作性非常差,極易把玻璃光罩黑缺陷一同覆蓋,導致玻璃光罩黑缺陷無法去除干凈。同時蝕刻液也是液態物質,在使用時極易對玻璃光罩有效金屬圖層造成損傷。因此通過蝕刻液化學分解方法去除玻璃光罩黑缺陷的方法可操作性差,且極易對玻璃光罩有效圖形造成損傷,危險系數高。
發明內容
為此,本實用新型所要解決的技術問題是:提供一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置,以克服現有技術中通過蝕刻液化學分解玻璃光罩黑缺陷方法的不足。
本實用新型提供了一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置,包括:用于放置玻璃光罩的具有橋梁結構的移動平臺、安裝于所述移動平臺的所述橋梁結構上面的顯微系統、安裝于所述顯微系統上面的激光發生器,以及通過電源線與所述激光發生器連接的激光電源系統。
其中,所述裝置還包括一個激光控制器,所述激光控制器通過信號連接線與所述激光電源系統實現連接。
所述裝置還包括一個熱交換器系統,所述熱交換器系統通過循環水管實現與所述激光電源系統的連接。
本實用新型所述一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置,通過設置龍門式三坐標移動平臺、自由切換倍率的顯微系統、激光發生器和激光控制器,實現通過激光光斑高溫氣化去除玻璃光罩黑缺陷的功能。克服了背景技術中所述通過蝕刻液手動去除玻璃光罩黑缺陷可操作性差且容易造成玻璃光罩黑缺陷周圍有效圖形損傷的弊端。
附圖說明
圖1為本實施例所述一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置結構示意圖。
具體實施方式
下面,結合附圖對本實用新型進行詳細描述。
如圖1所示,本實施例提供了一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置,該裝置包括:用于放置玻璃光罩20的具有橋梁結構(圖中未標示)的移動平臺11、安裝于移動平臺20的橋梁結構上面的顯微系統12、安裝于顯微系統12上面的激光發生器13,以及通過電源線31與激光發生器13連接的激光電源系統21,激光電源系統21為激光發生器13提供高壓電流用于激發激光17,激光發生器13所發出的激光17通過顯微系統12照射出來。
其中,所述裝置中移動平臺11為龍門式結構,即有一個沿豎直方向(即圖1中的上下方向)自由移動的平臺11,此平臺通過伺服馬達配合直線滾珠絲桿實現自由移動,橋梁結構(圖中未標示)上面安裝顯微系統12,通過伺服馬達配合直線滾珠絲桿實現顯微系統12沿水平方向(即圖1中的左右方向)的自由移動,最終實現顯微系統12可以查找并且觀察玻璃光罩20黑缺陷的功能。
所述裝置中激光發生器13通過電源線31與激光電源系統21實現連接,激光控制器22通過信號線33與激光電源系統21實現連接,通過調節激光控制器22,實現對激光光斑大小和能量的調節,進而實現通過激光光斑高溫氣化去除玻璃光罩黑缺陷的功能。
所述裝置還包括:一個熱交換器系統23,熱交換器系統23通過循環水管32實現與激光電源系統21的連接,激光電源系統21又通過循環水管32實現與激光發生器13的連接,最終熱交換器系統23通過水冷式內循環的方式實現對激光電源系統21和激光發生器13的降溫散熱,保證激光發生器13的穩定運行。
所述裝置中激光發生器13,其類型為YAG?固態激光器,用于去除玻璃光罩黑缺陷激光17的波長為1064nm,激光17最大發射能量為30mj,與激光發生器13連接并供應其電源的激光電源系統21的輸入電壓為AC?100?V。
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G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





