[實用新型]一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置有效
| 申請號： | 201520198660.5 | 申請日： | 2015-04-03 |
| 公開（公告）號： | CN204479906U | 公開（公告）日： | 2015-07-15 |
| 發明（設計）人： | 不公告發明人 | 申請（專利權）人： | 廣州市仕元光電有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/72 | 分類號： | G03F1/72 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 510730 廣東省廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 玻璃 光罩黑 缺陷 去除 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種玻璃光罩黑缺陷去除裝置，其特征在于，所述裝置包括：用于放置玻璃光罩的具有橋梁結構的移動平臺、安裝于所述移動平臺的所述橋梁結構上面的顯微系統、安裝于所述顯微系統上面的激光發生器，以及通過電源線與所述激光發生器連接的激光電源系統。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一個激光控制器，所述激光控制器通過信號連接線與所述激光電源系統實現連接。
3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一個熱交換器系統，所述熱交換器系統通過循環水管實現與所述激光電源系統的連接。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
