[實(shí)用新型]封閉循環(huán)式等離子體消毒系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520126657.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-03-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204542941U | 公開(公告)日: | 2015-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李陽(yáng)芳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京克普醫(yī)療科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61L2/14 | 分類號(hào): | A61L2/14 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 李艷麗 |
| 地址: | 210000 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 封閉 循環(huán) 等離子體 消毒 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于醫(yī)療衛(wèi)生領(lǐng)域,尤其涉及一種封閉循環(huán)式等離子體消毒系統(tǒng)。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)對(duì)材料特別是醫(yī)療器具表面進(jìn)行滅菌消毒的方法包括輻射、高溫、高壓電離和消毒氣體等。這些方法都有著不同的弊端和使用的局限性。
輻射滅菌設(shè)備的造價(jià)高昂而且輻射對(duì)人體有很大的傷害,一般只適合大型的醫(yī)院使用設(shè)備。高溫高壓的滅菌消毒方法也需要復(fù)雜的真空設(shè)計(jì)以及使用程序復(fù)雜,一般需要打開設(shè)備放進(jìn)處理目標(biāo)后再對(duì)系統(tǒng)抽真空或者加高溫高壓,處理完成后需要釋放高壓或者冷卻系統(tǒng),造成整個(gè)處理過程非常長(zhǎng)且控制程序復(fù)雜。另外,消毒氣體的使用一般對(duì)環(huán)境和人體有很大的傷害或者危險(xiǎn)性,需要限制使用。上述提到的設(shè)備對(duì)處理的目標(biāo)有一定的要求,一般熱敏的目標(biāo)都不能使用。
等離子處理方法也是新近研究的一種滅菌消毒的方法,比較普遍的是采用真空等離子體對(duì)目標(biāo)進(jìn)行滅菌消毒。真空等離子體的使用還是需要用到真空室,處理的過程也是需要先放置物件、抽取真空、進(jìn)行處理和釋放真空的過程。真空室的造價(jià)相對(duì)高昂,而且處理的過程也相當(dāng)復(fù)雜。
目前開發(fā)的大氣壓等離子體滅菌消毒方法可以在不使用真空室的情況下達(dá)到一定的滅菌消毒效果。但是這種方法用于滅菌消毒的效率取決于處理工藝的設(shè)計(jì)。目前普遍使用的處理方法是把樣品直接放在等離子體發(fā)生室中,由此可以達(dá)到的處理效果并不理想。
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實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種封閉循環(huán)式等離子體消毒系統(tǒng),旨在解決現(xiàn)有通過等離子體進(jìn)行滅菌消毒在不使用真空室的情況下滅菌消毒郊果不理想的問題。
本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種封閉循環(huán)式等離子體消毒系統(tǒng),其包括等離子體發(fā)生室、用于消毒待處理物的處理室及連接于所述等離子體發(fā)生室與所述處理室之間的連接管,所述等離子體發(fā)生室與所述處理室二者相互獨(dú)立,所述連接管上串接有泵送件及質(zhì)量流量控制器,所述連接管、所述等離子體發(fā)生室與所述處理室共同形成封閉的管道,所述泵送件驅(qū)使等離子體在所述管道內(nèi)循環(huán)流動(dòng)。
進(jìn)一步地,所述等離子體發(fā)生室具有第一進(jìn)氣口及第一出氣口,所述處理室具有第二進(jìn)氣口及第二出氣口,所述連接管包括連接于所述第二出氣口及所述第一進(jìn)氣口之間的第一管路及連接于所述第一出氣口及所述第二進(jìn)氣口之間的第二管路,所述質(zhì)量流量控制器串接于所述第一管路上,所述泵送件串接于所述第二管路上。
進(jìn)一步地,所述處理室內(nèi)設(shè)置有用來放置所述待處理物和在處理過程中對(duì)所述待處理物進(jìn)行翻轉(zhuǎn)以提高處理效率的支架。
進(jìn)一步地,所述封閉循環(huán)式等離子體消毒系統(tǒng)的氣壓在1千帕至20萬(wàn)帕之間。
進(jìn)一步地,所述等離子體發(fā)生室包括放置于中間的至少一個(gè)等離子體電極以及為所述等離子體電極供電的高壓等離子體電源。
進(jìn)一步地,所述等離子體電極為同軸電極,所述等離子體電極包括同軸設(shè)置的外層的高壓電極、中間的介質(zhì)層及內(nèi)層的柵網(wǎng)電極,所述高壓電極與所述高壓等離子體電源的高壓輸出端連接,所述柵網(wǎng)電極接地。
或者,所述等離子體電極為平板三層結(jié)構(gòu),所述等離子體電極包括高壓電極、柵網(wǎng)電極及夾于所述高壓電極與所述柵網(wǎng)電極之間的介質(zhì)層,所述高壓電極與所述高壓等離子體電源的高壓輸出端連接,所述柵網(wǎng)電極接地。
進(jìn)一步地,所述等離子體電極的結(jié)構(gòu)為介質(zhì)阻擋的沿面放電結(jié)構(gòu)、介質(zhì)阻擋的空間放電結(jié)構(gòu)、直流電暈放電結(jié)構(gòu)、直流輝光放電結(jié)構(gòu)、直流電弧放電結(jié)構(gòu)、微波輝光放電結(jié)構(gòu)或射頻輝光放電結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步地,所述介質(zhì)層的厚度在0.02毫米至10毫米之間。
進(jìn)一步地,所述泵送件中流過的氣流流速在1厘米每秒至10米每秒之間。
本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果是:上述封閉循環(huán)式等離子體消毒系統(tǒng)采用等離子體發(fā)生室和處理目標(biāo)分離的設(shè)計(jì)概念,即等離子體在一個(gè)等離子體發(fā)生室的腔室內(nèi)產(chǎn)生,處理目標(biāo)放置在另外一個(gè)分離的處理室的腔室內(nèi),兩個(gè)腔室通過連接管連接,整個(gè)系統(tǒng)構(gòu)成一個(gè)封閉的循環(huán),內(nèi)部的氣體流動(dòng)通過泵送件抽動(dòng)產(chǎn)生,其具有如下優(yōu)點(diǎn):
1、充分利用系統(tǒng)產(chǎn)生的等離子體氣體,對(duì)目標(biāo)進(jìn)行處理后的等離子體氣體可以被抽回到等離子體發(fā)生室的腔室中參與等離子體放電過程;
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A61L2-16 .應(yīng)用化學(xué)物質(zhì)
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