[實用新型]封閉循環式等離子體消毒系統有效
| 申請號: | 201520126657.2 | 申請日: | 2015-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN204542941U | 公開(公告)日: | 2015-08-12 |
| 發明(設計)人: | 李陽芳 | 申請(專利權)人: | 南京克普醫療科技有限公司 |
| 主分類號: | A61L2/14 | 分類號: | A61L2/14 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 李艷麗 |
| 地址: | 210000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 封閉 循環 等離子體 消毒 系統 | ||
1.一種封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述封閉循環式等離子體消毒系統包括等離子體發生室、用于消毒待處理物的處理室及連接于所述等離子體發生室與所述處理室之間的連接管,所述等離子體發生室與所述處理室二者相互獨立,所述連接管上串接有泵送件及質量流量控制器,所述連接管、所述等離子體發生室與所述處理室共同形成封閉的管道,所述泵送件驅使等離子體在所述管道內循環流動。
2.如權利要求1所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述等離子體發生室具有第一進氣口及第一出氣口,所述處理室具有第二進氣口及第二出氣口,所述連接管包括連接于所述第二出氣口及所述第一進氣口之間的第一管路及連接于所述第一出氣口及所述第二進氣口之間的第二管路,所述質量流量控制器串接于所述第一管路上,所述泵送件串接于所述第二管路上。
3.如權利要求1所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述處理室內設置有用來放置所述待處理物和在處理過程中對所述待處理物進行翻轉以提高處理效率的支架。
4.如權利要求1所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述封閉循環式等離子體消毒系統的氣壓在1千帕至20萬帕之間。
5.如權利要求1所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述等離子體發生室包括放置于中間的至少一個等離子體電極以及為所述等離子體電極供電的高壓等離子體電源。
6.如權利要求5所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述等離子體電極為同軸電極,所述等離子體電極包括同軸設置的外層的高壓電極、中間的介質層及內層的柵網電極,所述高壓電極與所述高壓等離子體電源的高壓輸出端連接,所述柵網電極接地。
7.如權利要求5所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述等離子體電極為平板三層結構,所述等離子體電極包括高壓電極、柵網電極及夾于所述高壓電極與所述柵網電極之間的介質層,所述高壓電極與所述高壓等離子體電源的高壓輸出端連接,所述柵網電極接地。
8.如權利要求5所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述等離子體電極的結構為介質阻擋的沿面放電結構、介質阻擋的空間放電結構、直流電暈放電結構、直流輝光放電結構、直流電弧放電結構、微波輝光放電結構或射頻輝光放電結構。
9.如權利要求6或7所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述介質層的厚度在0.02毫米至10毫米之間。
10.如權利要求1-8任一項所述的封閉循環式等離子體消毒系統,其特征在于:所述泵送件中流過的氣流流速在1厘米每秒至10米每秒之間。
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