[實用新型]一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520109463.1
• 申請日: 2015-02-13
• 公開（公告）號: CN204608148U
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發(fā)明（設計）人: 孔令杰;吳克松;丁玉林
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽貝意克設備技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領域

本實用新型涉及化合物蒸發(fā)鍍膜設備技術(shù)領域，具體的說涉及一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機構(gòu)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有化合物蒸發(fā)鍍膜設備大都采用電阻絲加熱，由于電阻絲本身具有熱慣性大且升降溫速率慢的特性，使得其溫度上限很低，限制了化合物蒸發(fā)鍍膜設備的使用范圍，并且電阻絲具有溫度反應敏度低、纏繞復雜等問題，要占用化合物蒸發(fā)鍍膜設備的大量真空腔空間，而且現(xiàn)有化合物蒸發(fā)鍍膜設備加熱區(qū)區(qū)間位置固定，對不同化合物的加熱需要不同的加熱溫度，而加熱設備區(qū)間位置固定對不同化合物加熱會造成加熱效果差，且增大了能耗。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的是提供一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機構(gòu)，其結(jié)構(gòu)獨特簡單，快速升降溫度，而且加熱部件區(qū)間距離可調(diào)，加熱效果好。

為了解決背景技術(shù)所存在的問題，本實用新型采用以下技術(shù)方案：

一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機構(gòu)，所述的加熱蒸發(fā)機構(gòu)包括有腔體，所述的腔體的上端、下端分別連接有上蓋法蘭、底座法蘭，所述的上蓋法蘭、底座法蘭的圓周內(nèi)側(cè)開設有多個相鄰兩兩相互等距的圓孔，底座法蘭的上端面固定有下加熱區(qū)機構(gòu)，底座法蘭上開設有多個連接圓孔，連接圓孔上連接著真空電極組件，上蓋法蘭的上端面中部設有承接件，所述的承接件的一側(cè)設有排氣閥，所述的承接件通過升降調(diào)節(jié)旋鈕與上加熱區(qū)機構(gòu)的光軸連接，上加熱區(qū)機構(gòu)固定在上蓋法蘭的下端，所述的腔體的側(cè)面上開設有槽孔，槽孔上固定有透視組件，所述的透視組件上設有透明玻璃，所述的透視組件與透明玻璃之間固定連接有O型圈。

所述的真空電極組件包括雙芯真空電極、中心支架、法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極的上端、下端分別連接有法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極上部連接有中心支架，中心支架固定在雙芯真空電極上端的法蘭卡箍。

本實用新型有益效果：本實用新型其結(jié)構(gòu)獨特簡單，快速升降溫度，而且加熱部件區(qū)間距離可調(diào)，加熱效果好，部件占用空間范圍小，能夠降低能耗。

附圖說明

圖1為實用新型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型部分平面示意圖；

圖3為本實用新型立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實用新型部分結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機構(gòu)，包括有腔體1，所述的腔體1的上端、下端分別連接有上蓋法蘭2、底座法蘭3，所述的上蓋法蘭2、底座法蘭3的圓周內(nèi)側(cè)開設有多個相鄰兩兩相互等距的圓孔4，底座法蘭3的上端面固定有下加熱區(qū)機構(gòu)5，底座法蘭3上開設有多個連接圓孔6，連接圓孔6上連接著真空電極組件7，上蓋法蘭2的上端面中部設有承接件8，所述的承接件8的一側(cè)設有排氣閥9，所述的承接件8通過升降調(diào)節(jié)旋鈕10與上加熱區(qū)機構(gòu)11的光軸12連接，上加熱區(qū)機構(gòu)11固定在上蓋法蘭2的下端，所述的腔體1的側(cè)面上開設有槽孔13，槽孔13上固定有透視組件14，所述的透視組件14上設有透明玻璃15，所述的透視組件14與透明玻璃15之間固定連接有O型圈16。

所述的真空電極組件7包括雙芯真空電極71、中心支架72、法蘭卡箍73，所述的雙芯真空電極71的上端、下端分別連接有法蘭卡箍73，所述的雙芯真空電極71上部連接有中心支架72，中心支架72固定在雙芯真空電極71上端的法蘭卡箍73內(nèi)。