[實用新型]一種可調化合物蒸發鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發機構

有效

• 申請號: 201520109463.1
• 申請日: 2015-02-13
• 公開（公告）號: CN204608148U
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發明（設計）人: 孔令杰;吳克松;丁玉林
• 申請（專利權）人: 安徽貝意克設備技術有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可調化合物蒸發鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發機構，其特征在于：包括有腔體，所述的腔體的上端、下端分別連接有上蓋法蘭、底座法蘭，所述的上蓋法蘭、底座法蘭的圓周內側開設有多個相鄰兩兩相互等距的圓孔，底座法蘭的上端面固定有下加熱區機構，底座法蘭上開設有多個連接圓孔，連接圓孔上連接著真空電極組件，上蓋法蘭的上端面中部設有承接件，所述的承接件的一側設有排氣閥，所述的承接件通過升降調節旋鈕與上加熱區機構的光軸連接，上加熱區機構固定在上蓋法蘭的下端，所述的腔體的側面上開設有槽孔，槽孔上固定有透視組件，所述的透視組件上設有透明玻璃，所述的透視組件與透明玻璃之間固定連接有O型圈。

2.根據權利要求1所述的一種可調化合物蒸發鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發機構，其特征在于：所述的真空電極組件包括雙芯真空電極、中心支架、法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極的上端、下端分別連接有法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極上部連接有中心支架，中心支架固定在雙芯真空電極上端的法蘭卡箍。